哈工大EUV光刻机突破!新加坡学者:只要成功,芯片战就会结束

人间靳说 2025-01-19 11:02:58

你能想象吗?

全球半导体行业的两大巨头,正面临着来自中国的一项技术突破。

而这个突破的源头,竟然是一所高校!

新加坡知名投资专家也说“只要成功,芯片战就会结束!”

但这绝不是不是结束,是我们反攻的开始!

全球芯片行业的血腥角逐

你可曾想过,在全球半导体行业,曾一度无人能敌的巨头们,正被一项来自中国的科技突破逼得心神不宁?

是的,说的就是全球光刻机市场的霸主荷兰ASML,和全球芯片制造的王者台积电。

这两个名字曾是技术的代名词,也是世界半导体产业的“天花板”,但你可能不知道,今天有一家来自中国的高校,正在悄悄改变这一切。

这不仅仅是科技突破,更是国家实力的象征!而这一次的“革命”来源,竟然是哈工大!

2025年1月,哈尔滨工业大学宣布了一项极为震撼的技术突破,他们成功研发出了一种名为“放电等离子体极紫外光刻光源”的新型技术。

乍听之下,这个技术名词让人眼花缭乱,可如果告诉你,这一技术将彻底改变全球半导体行业的格局,你可能就会重新审视中国在芯片领域的未来。

而且这项技术不仅让中国在高端光刻机光源技术上摆脱了对西方的依赖,还可能在未来几年内打破ASML的市场垄断。

我们曾经以为中国在半导体领域遥不可及,但如今随着这一突破的到来,整个半导体产业链的未来,可能会发生彻底的颠覆。

这一切到底意味着什么?全球半导体行业,真的是在面临一场巨大的“地震”吗?

光刻机技术的“国产革命”

2025年1月,哈工大终于发布了他们的“放电等离子体极紫外光刻光源”技术。

这一技术将光刻机的光源从传统的激光等离子体方法,转变为通过控制等离子体中原子和离子的跃迁产生极紫外光。

这种方法不仅具备更高的能量转换效率、低成本、体积小等优势,更重要的是,突破了目前全球技术巨头的垄断地位。

此前全球最先进的光刻机技术,几乎全部掌握在荷兰ASML手中,ASML的光刻机技术基于极紫外光(EUV)原理,而EUV光源的研发一直是一个世界级的技术难题。

过去ASML凭借其多年的技术积累和巨额投资,牢牢把控了全球半导体制造的核心技术,而中国,尤其是中芯国际,面对的是无法跨越的技术壁垒,EUV光刻机的缺失。

但哈工大的这一突破改变了整个游戏规则,与ASML的技术相比,哈工大的极紫外光刻光源技术不仅在能量转换效率上更高,而且制造成本也大幅降低。

光刻机的光源系统是其中最为核心的部分,占据了整台机器的70%以上的重要性,如果没有稳定的光源系统,光刻机的工作精度和制造能力将大打折扣。

ASML的EUV光刻机光源使用的是激光等离子体技术,制作工艺复杂且成本极高,而哈工大的光源技术通过“放电等离子体”的方法产生极紫外光,简化了生产流程,同时提高了效率。

这一技术的核心竞争力在于它的高能量转换效率和低成本制造特点,如果这一技术能够进入量产并投入实际应用,它将成为中国光刻机产业的“杀手锏”,进一步加速国产半导体设备的崛起。

台积电慌了?

当我们谈论光刻机技术时,往往也要提到台积电,这个台湾的半导体制造巨头,凭借领先的芯片制造技术,一直在全球市场上稳居霸主地位。

从7nm到5nm,再到3nm、2nm,台积电的技术始终处于行业前沿,几乎每一代芯片工艺都领先全球一步,而作为全球最强的芯片代工厂,台积电的生产工艺无可挑剔。

但台积电的成功离不开一个关键因素,ASML的EUV光刻机,可以说ASML的技术为台积电的先进制程提供了至关重要的支持。

如果没有EUV光刻机的支持,台积电根本无法做到目前的芯片制造精度。

中芯国际曾经被认为是中国芯片制造的“落后者”,如今有了迎头赶上的机会,一旦哈工大光刻机技术成熟并投入使用,中芯国际将有可能借此机会迎头赶上,甚至超越台积电。

在接受彭博电视台专访时,新加坡毕盛资产管理创始人王国辉提出了一个震撼的观点。

他认为虽然中芯国际目前市值只有500亿美元,远远落后于台积电的3000亿美元,但中国有足够的资金、技术人才以及庞大的内需市场,能够支撑中芯国际不断迎头赶上。

他相信一旦中芯国际成功研发出自主的EUV光刻机,中国将在全球半导体市场中实现弯道超车。

而且哈工大的技术突破大大降低了中国半导体产业对外部技术的依赖,如果能够实现国产光刻机的量产。

中芯国际将摆脱ASML的技术封锁,未来将能够自主生产7nm、5nm甚至更小工艺的芯片,这将直接影响到台积电的市场份额。

哈工大的突破不仅仅是为中芯国际提供技术支持,它将带动整个中国半导体产业链的提升,从光刻机、材料到设备,再到制造工艺,这一技术的普及将推动中国在芯片产业链的全面崛起。

全球半导体产业的“震荡波”

在这一切变革的背后,全球半导体产业的生态将会发生深刻变化,中芯国际等国产芯片制造商,借助哈工大的技术突破,将逐渐接近台积电,并有望在未来几年实现“弯道超车”。

随着中国光刻机技术的成熟和国产化的推进,全球半导体设备的采购将不再受制于ASML。

虽然ASML目前仍在技术上保持领先,但中国技术的崛起,全球半导体设备市场的竞争将会更加激烈,价格将会逐渐下跌,市场份额也将变得更加分散。

国内的半导体产业链将得到前所未有的支持,中芯国际的崛起,将带动整个国产半导体产业链的升级,不仅仅是芯片制造,还包括材料、封装、测试等环节。

国产光刻机的出现,让中国不再依赖西方的技术封锁,之后中国不仅能够独立生产先进制程芯片,还将为全球半导体产业提供更多的“中国制造”。

未来几年,全球半导体产业将迎来一次深刻的“震荡波”,中国的半导体产业,尤其是中芯国际,将有机会在这一波浪潮中乘风破浪。

哈工大这一重大突破的问世,中国半导体产业的未来将变得更加明朗,中芯国际或将迎来技术跨越的机会,台积电的领先地位也将面临挑战。

这一场科技竞赛,已经从幕后走到了台前,接下来的几年,半导体行业将发生怎样的变化?我们拭目以待。

文/编辑:ToT

参考资料:

2025-01-05 哈尔滨日报——祝贺!哈工大两项目获黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖

2024-03-07 环球时报新媒体——全国政协委员谢素原:要突破芯片“卡脖子”,还要突破材料“卡脖子”

2025-1-8 芯智讯——中芯国际市值将赶上台积电?国产EUV光刻机一旦成功,芯片战争就会结束!

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