美国的策略是限制中国获取半导体生产的关键技术和设备,尤其是光刻机、离子注入机和刻蚀机等核心设备。光刻机尤其关键,它直接关系到芯片的生产工艺和性能。在国际协议如《瓦森纳协议》以及美日荷三方的特定协定下,最先进的EUV光刻机被禁止出口到中国,而DUV光刻机的出口也遭到严格限制。这些措施旨在削弱中国半导体产业的技术进步和产能扩张。
然而,尽管面对来自国际社会的重重限制,中国半导体产业并未停止步伐。相反,这些限制似乎加速了中国在半导体领域的自主研发和生产能力的建设。事实上,限制EUV和DUV光刻机的出口并未能有效阻止中国半导体产业的发展。相反,这一策略反而激励了中国加快半导体领域的自主创新。而对于ASML等欧美半导体设备制造商而言,中国市场的巨大需求和快速发展实际上是不可或缺的。在此背景下,美国的政策调整引发了对全球半导体供应链稳定性的新一轮担忧。在中美科技战的背景下,中国半导体产业的自主发展能力受到了极大的关注。尽管面临外部压力,中国并未坐以待毙,而是通过各种途径尝试突破技术封锁。中国政府及企业对于从海外购买的半导体设备采取了明确的立场:如果这些关键设备因为外部限制而变成“废铁”,中国将要求相关半导体设备制造商进行设备回购。这一措施直接向国际供应商如ASML发出了明确的信号:中国市场对于他们而言不仅巨大且不可忽视,同时也要求他们在政策调整面前保持一定的灵活性和适应性。
在此期间,全球半导体产业的版图正在发生变化。尽管全球多数地区的半导体产业增长放缓,中国的半导体市场却在迅速扩张,对先进半导体设备的需求日增。这一现象说明,如果国际设备供应商如ASML不能把握住服务中国市场的机会,未来他们将面临更加激烈的竞争和挑战。一旦中国在半导体设备技术上实现了自主研发和生产,国际供应商想要再次进入中国市场,难度将会大大增加。美国的严格限制措施和策略调整引起了广泛的关注和讨论。在过去,像三星、SK海力士这样的韩国企业会在更新产能后,将淘汰的旧设备出售给中国厂商。然而,随着美国政策的加强,这些企业现在不得不选择将旧设备闲置,而不是冒着政治风险出售给中国。这种情况不仅影响了中国半导体产业的发展,也给全球半导体设备的循环和利用带来了新的挑战。随着时间的推移,美国可能需要重新评估其对华政策,考虑其长期效果和潜在的全球影响。这种策略的持续可能会导致国际合作与竞争关系的重新洗牌,影响到全球半导体产业的未来走向。