最近几十年里，美国一直处于科技霸主地位，而且利用大量专利从其他国家赚取了高额利润。但是随着中国科技水平的发展，有些领域美国优势不再，比如5G通讯技术。所以从2018年起，美国就采用“出口清单”的方式，限制中兴、华为等中国企业。今年2月，美国又开始了第五轮针对中国的制裁，这次的限制包括4G、云计算和WiFi等领域，从芯片等“硬件”扩大到了“软件”相关服务。

但是，中国半导体企业和科研单位，这几年来也一直在加速进行研发和生产，没有因为美国的制裁就一蹶不振，伴随而来的是一项又一项突破。

这其中，最困难也是最让人期待就是高端光刻机方面的突破。我国半导体业基础研究薄弱，起步晚，而美国等发达国家已经通过多年的研究取得了很多专利。这几年我国芯片业被卡脖子，就是因为不能自主生产光刻机，所以美国一卡一个准。但是美国的禁令也在让我们的科研机构和企业在光刻机的研发和生产上奋起直追。除了上海微电子等企业，哈尔滨工业大学这样的高校也在光刻机相关技术上迅速取得了突破。

哈工大连续“捅破天”

近日，哈工大宣布，利用“电能转化等离子体线路技术”，研发出了DPP-EUV光源。而EUV光源，也正是EUV光刻机的核心部件。哈工大这次的技术类似荷兰阿斯麦在EUV光刻机上采用的技术，都是利用放电让氙或锡等元素形成等离子体，再经过多次反射，发出EUV光线。拥有这项“捅破天”的技术，也意味着我们初步掌握了EUV光刻机所需的光源制造，朝着EUV光刻机的核心技术又进了一步。

去年，哈工大还研制出了“高速超精密激光干涉仪”，并且获得了首届“金燧奖”。这台并不直接用于芯片生产的设备却对光刻机的生产有着重要作用。光刻机的主要部件包括激光光源、物镜系统和工作台三部分，而且这三个部分必须精确配合。高端光刻机需要更精确的测量，以便对设备进行定位，而这台激光干涉仪正是作为测量设备，对光刻机的生产进行“保驾护航”的。

光刻机核心系统主要包括光源、物镜和双工作台。在物镜方面，长春光机所突破了“光学投影物镜” 的关键技术；在双工作台方面，华卓精科也已经取得了重大突破。三大核心部件，光源是最后也是最重要的那一块“拼图”。现在，哈工大终于给出了突破性的成果，这也就意味着，EUV光刻机三大部件我们都有能力进行自主生产，朝着全面自主研发的EUV光刻机的目标又前进了一大步。

生产一台EUV光刻机需要10万个以上的零部件，过程极为复杂，目前全球只有荷兰阿斯麦公司能生产。但阿斯麦自己的技术只占了10%的比例，还需要大量采用美国和德国等国的专利和零部件，而美国也正是凭借这一理由，限制阿斯麦向中国出口EUV光刻机。2018年中芯国际下单的EUV光刻机，现在阿斯麦都没供货。

中芯国际目前可以生产14纳米芯片，正在朝7纳米前进。虽然用DUV光刻机可以实现这一目标，但是良品率和成本控制都不够理想，所以仍然需要EUV光刻机来实现量产，因此研发EUV光刻机也就成了一项紧迫的任务。

美国再次制裁

就在我们因为激光领域的成果感到欣喜时，美国则又打起了算盘。根据美国媒体报道，拜登将会在几周之内签署一份命令，限制美国企业对中国的高新科技领进行投资。

拜登又急了，所以继续采用一切可能的手段打压中国的高科技产业，维持其自身的领先地位。据悉，这次的限令针对的是互联网、人工智能、大飞机还有半导体等领域，未来美国还可能拉上别的国家共同参与进来。

哈工大在激光技术上捷报频传，让欧美等国都有了危机感。因为中国有可能凭借这项技术成为继荷兰之后第二个能够生产EUV光刻机的国家。除了美国，德国最近也开始考虑限制向中国出口半导体相关的化学品。未来，我们面临的挑战可能更加严峻，但别无选择的情况也激发出了业界自主研发的决心，这才有了半导体业短期内连续的突破。

美国媒体也已经意识到了限令所造成的尴尬局面，他们高估了自己，低估了中国。中国是唯一一个拥有全部产业链的国家，之前的几轮限制对华为等企业确实造成了阻碍。但是美国限制什么，中国就研发什么，限令从来没能动摇我们高科技产业进步的步伐。这次拜登的限令，意在限制美国资本对中国互联网等行业的支持，但实际上，中国互联网行业早已独立自主，不会受美国投资的左右了。因此，外媒也说，这是堵了个“寂寞”。

总结

最近，哈工大公布了EUV光源方面的重大突破，这对我们自主生产光刻机有着至关重要的价值。美国准备开始限制美企对中国高科技产业的投资，但几轮的制裁已经证明，这些小动作都不会让中国妥协，而是会更坚定地走向自主研发之路。