自从华为遭遇断芯之后，光刻机等核心设备材料就成了中美“芯战”的焦点。中芯国际等国内晶圆制造厂商之所以无法代工14nm以下制程，并非技不如人，而是缺少EUV光刻机。

现阶段全球能生产EUV设备的只有荷兰ASML，但由于《瓦森纳协定》以及老美的横加干预，它始终无法向大陆市场自由出货。

可没想到老美对此仍不满足，为了彻底“锁死”中国芯片产业的出路，前段时间它又联合日、荷两国制定了三方协议，连应用于成熟芯片制程的DUV光刻机也要限制出货。

此举可谓是扎到了ASML的“大动脉”， 无法对大陆出货EUV光刻机已经造成其营收受损，如果DUV光刻机的供应渠道再被全部切断，那ASML面临的就不仅仅是营收问题了，很可能就此彻底失去中国市场，这显然是它无法接受的。

正是因此，ASML不止一次的对美发出警告，称如果不把光刻机卖给中国，将会促使他们加快自给自足的脚步，一旦完全掌握了该技术，不仅ASML会面临破产的风险，以出口为主的美芯片也将遭受重创。

虽然日本、荷兰已相继表示会在春季开始限制相关半导体设备对大陆市场的出货，但ASML却也似乎达成了自己的目的。

就在近期，针对光刻机新规一事，ASML方面已正式确认，称三方协议所限制的只是2050i和2000i这两款先进的DUV光刻机型号，而1980Di不受规则约束，仍可继续出货，发展成熟芯片业务的客户不受影响。

据ASML官网介绍，1980Di这款DUV光刻机的单次分辨率为38nm，虽然通过多重曝光技术可实现7nm的量产，但成本和良率难以把控，主要还是应用于成熟工艺。但对于大陆芯片市场来说，这恰是现阶段符合需求的设备。

尽管现阶段芯片制程已经突破了3nm，可其适用范围仅局限于智能手机等小部分行业，而28nm以下的成熟工艺则仍是主流，被广泛应用于航天航空、5G基站、新能源汽车等诸多关键领域，市场需要占比超过了80%。

过去两三年时间里，中芯国际、华虹半导体等代工厂商都在大力扩产28nm产能，尤其是前者，豪掷1700多亿元，在北京、上海、天津等地新建造4座12英寸晶圆厂，几乎押上了所有身家。

在国产28nm光刻机尚未落地之前，ASML的1980Di光刻机仍是国内芯片市场的第一选择，且需求规模庞大。这意味着，ASML不仅消除了被排除在中国市场之外的风险，而且还能借助国内自主造芯的潮流获取更多的利润。

从表面上看，国产芯片和ASML之间各取所需，对双方似乎都好。但这样的结果与老美限制中国半导体发展的策略却并不相符。

那么问题来了，为何美国不进一步封锁1980Di这款DUV光刻机呢，难道是ASML的警告起作用了？

答案显然是否定的。原因很清晰，国产光刻机正在加速突破阶段，EUV光刻机难度系数较高，国内市场暂时或许无法突破，可对于1980Di这种中低端DUV光刻机，那就另当别论了。

根据此前媒体多次报道的消息显示，上海微电子已完成了对DUV光刻机的研发，目前正处客户测试阶段。因此，美国限制该设备的出货现在已没有任何意义，相反，允许ASML自由出货，反倒还能通过价格技术等优势，在一定程度上挤压国产光刻机的市场空间。

个人认为，老美在DUV光刻机方面的这种“围师必阙”举动，很有可能就是它与ASML联手唱的双簧。限制高端芯片供应链是为阻碍中国半导体的发展，放开中低端光刻机设备，目的同样也是遏华。

事实证明，人民日报说得很对，核心技术买不来，国产芯片的崛起没有捷径，若想不再被“卡脖”，只有埋头苦干，身体力行的去突破所有技术壁垒，才能在未来的大国竞争中掌握主动权！对此，你们怎么看？