据法新社6日报道，荷兰政府当天宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制。阿斯麦（ASML）随后表示，更新后的措施适用于更多型号的浸润式DUV（深紫外）光刻系统。从9月7日起，阿斯麦需向荷兰当局申请出口许可证，以将设备出口到欧盟之外。

早前，阿斯麦最先进的浸润式DUV光刻机已受限制。据路透社报道，此次限制的重点放在了阿斯麦的TWINSCAN NXT系列中的1970i与1980i浸润式DUV光刻系统上。

浸润式DUV光刻机作为应用最广泛的光刻设备，采用了ArF光源，常被称为ArFi光刻机。其光源波长已突破至193nm以下，缩短至134nm，数值孔径（NA）达到1.35，最高可以支持7nm工艺节点的制造。

TWINSCAN NXT 1970i是1965Ci的升级版本，满足客户对于双模式及多模式的需求，适用于在20nm以下节点进行300mm晶圆的批量生产，产能达到每小时250片晶圆（WPH）。

TWINSCAN NXT:1980Di系统于2015年面世，以高产能与高稳定性著称，专为10nm以下节点300mm晶圆的批量生产而设计，其产能可达每小时275片晶圆（WPH）。

TWINSCANNXT:1980Di浸润式DUV光刻系统图示：

资料来原：ASML

EUV光刻机代表当前光刻技术的最前沿，运用EUV极紫外光源，光波波长缩减至仅13.5nm，并配备有0.33的数值孔径（NA）。

目前全球仅有阿斯麦公司具备生产EUV光刻机的能力，其市场售价高达1.2亿美元。

为了加快EUV技术的研发进度及推动产品的升级换代，ASML通过收购与参股等手段，将多个细分领域的领军企业整合进自己的体系中。2013年，ASML以31亿欧元的价格收购了Cymer公司，后者是紫外光源技术的领头羊；2016年，ASML又斥资28亿欧元并购了汉微科，这是一家专注于电子束晶圆检测设备的供应商。

ASML浸没式光刻机发展路线图：

资料来源：ASML

阿斯麦是全球光刻机行业绝对霸主，实力远超同业。根据公开信息，ASML在2023年的研发投入达到了39.81亿欧元，相较于2022年的32.54亿欧元有显著增长。

阿斯麦的供应链链遍布全球，覆盖了欧洲、中东、非洲、北美以及亚洲地区，总计涉及5,100多家供应商。根据《电子产品世界》的数据，阿斯麦的产品中，高达90%的零部件来源于外部采购，公司自身则专注于掌握最核心的技术以及进行系统集成。

以阿斯麦的EUV光刻机为例，内部零件极为繁复，数量可超过8万件。每一台设备都需要近千家全球供应链厂商的零部件支持，其中，Zeiss、Cymer等公司为其提供了高精度的光学组件。

当前最先进的第五代EUV光刻机，光源波长仅为13.5纳米。

五代光刻机演进过程：

除了精密的气垫隔震平台等辅助部件外，光刻机主要由光源系统、物镜与照明系统以及双工件台这三大核心部分组成。

光刻机制造商通常采用高外购比例，并与供应商建立紧密的联合研发合作关系，下游应用领域主要涉及芯片制造、功率器件生产以及芯片封装等行业。

国内光刻机产业链厂商主要集中于光学元件、工作台技术、浸液系统及相关零部件的研发与生产。在光刻机项目的整体布局中，整机项目由上海微电子负责，而各关键系统的研发最初则由中科院微电子研究所、长春光机所、上海光机所等科研机构承担，同时联合了清华大学、哈尔滨工业大学、华中科技大学等知名高校进行技术攻关。

近年来随着国内光刻机整机技术的不断进步，关键的光学技术、工作台技术、浸液系统等技术均实现了重大突破，国内的科研院所和高校也加速成立产业基地或公司，以推动研究成果的产业化应用。

国内光刻机产业链及代表厂商：

在国外加速管控背景下，国内企业有望再度加快国产替代步伐，不仅是经济安全的需要，也是实现产业升级和自主可控的必然路径。

关注【乐晴行业观察】，洞悉产业格局！