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俄罗斯也搞500万卢布光刻机，制造350纳米芯片，其精神值得借鉴。俄罗斯制造500万卢布光刻机以生产数十纳米芯片的精神确实值得借鉴，主要体现在以下几个方面：

自主创新精神

面对西方制裁，俄罗斯没有依赖进口光刻机，而是选择自主研发，这种自主创新精神使其在半导体领域迈出重要一步，为摆脱外部技术制约奠定基础，也启示其他国家在科技发展中要掌握核心技术，实现自主可控.

坚韧不拔的毅力

俄罗斯在半导体产业基础薄弱且面临诸多困难的情况下，依然坚持推进光刻机研发工作，历经长时间努力，成功制造出首台国产光刻机，这种在困境中不屈不挠、持之以恒的精神，对其他国家发展科技产业具有激励作用.

重视科研投入

俄罗斯政府高度重视半导体产业，投入大量资金支持光刻机研发项目，并组织科研机构和企业协同攻关，整合各方资源，发挥各自优势，提高研发效率和成功率，这表明了政府在推动科技进步中的重要引领作用，也为其他国家提供了借鉴.

勇于挑战的决心

俄罗斯不仅满足于制造低制程芯片的光刻机，还公布了自主研发EUV光刻机的路线图，目标是开发出更先进的光刻机与ASML竞争，展现出其在科技领域勇于挑战、追求卓越的决心和勇气，这种宏大的目标和坚定的信念，有助于激发科研人员的创新热情和创造力，推动整个科技产业的发展.俄罗斯已制造出的成本约500万卢布的光刻机，可生产350纳米芯片，主要用于汽车、能源和通信等行业. 其性能参数如下：

- 分辨率：350nm，虽然与目前最先进的光刻机有较大差距，但能满足部分对精度要求不高的行业需求。

- 光源：未明确提及，推测为常规光刻光源。

- 产能：未明确公布，鉴于其技术水平和应用领域，产能相对较低。

此外，俄罗斯还公布了自主研发EUV光刻机的计划，其性能参数为：采用11.2nm的氙基镭射光源，波长较ASML的13.5nm更短，理论上可将分辨率提升约20%；每小时可处理60片200毫米晶圆的原型机，并整合至国内芯片生产线，最终目标是每小时处理60片300毫米晶圆.