光刻机，号称人类机械工业领域生产难度最高的设备，也是芯片生产环节最为核心的设备。没有光刻机，关于芯片的一切都是“纸上谈兵”。

早期日本的尼康、佳能掌握着光刻机市场话语权，但随着市场对芯片工艺精度的需求不断上涨，荷兰的ASML凭借浸润式光刻机、紫外光技术等逐步成为主流。

如今的光刻机市场格局非常清晰：ASML垄断了全球顶级的EUV光刻机设备，整个市场份额高达82%左右；日本尼康、佳能掌握剩余大部分，上海微电子等掌握剩余小部分。整个市场呈现四足蹩脚之势。

我国是芯片大国，也是芯片制造大国，过去多年来中国芯片厂主要依赖ASML的光刻机进口，但之前的《瓦森纳协定》和“三方协议”，ASML的EUV光刻机无法进入中国市场，即便中高端DUV光刻机也收到了严格管控。

这种背景下，我国将光刻机列入了重点研发目录，国内科研机构也频频传出中高端光刻机通过技术认证，EUV光源样机诞生的消息，光刻机核心子系统光源、物镜、双工件台等方面也是频传捷报。

然而，在光刻机领域，我国的进口数据却不降反增！

2023年，我国光刻机进口额达到了600亿元左右，整整是前一年的三倍。2024年中企对ASML光刻机的采购达到了101.9亿欧元，合计800亿人民币。在ASML的总营收中占据了36.1%的市场份额，断代领先，中国企业再次成为ASML最大的客户…..形势严峻！

这些年我国一直在加速国产芯片及相关产品的国产替代，为什么对光刻机的进口不降反增呢？

首先，光刻机的研发并非一蹴而就，这是一个循序渐进的过程，我们都知道物理原理就在哪里，但这些年ASML在中国注册了大量技术专利，筑起了森严的专利壁垒。想要达到ASML的水平，就得拥有比ASML更强的实力或创新能力，因为要规避ASML等光刻机厂商现有的技术专利，这一定成增加了光刻机技术的研发难度。目前虽然我国也有自主研发的光刻机，但精度还没有达到ASML的水平。

其次，台积电、三星押注的是先进制造工艺，也就是7nm、5nm及以下制造工艺，中国押注的是成熟工艺芯片，这是新能源汽车、家用电器等行业的基本盘。而我国新能源汽车正处于产业爆发期，产能超全球60%，关键许多车企开始走智能驾驶路线，这就导致芯片需求量大幅上涨，而这类芯片就得依赖ASML的DUV光刻机，一定程度上推动了中企对ASML光刻机的采购量。

另外，此前ASML突然宣布，隐藏对华出口数据，这种“擦边式”供货模式在全球科技竞争日益加剧的情况下，促使国内厂商通过囤货的方式规避未来断供风险，为后续国产光刻机的突破争取“空窗期”。

关键在于，中企倡导的是“科技服务于人类”，近年来我国规划新建22座晶圆厂，重点布局28nm-90nm成熟工艺芯片产能，而去年开始中芯、华虹宣布芯片降价40%，主打人人买得起。2024年，中国芯片出口额达到了1.1万亿，今年前两个月芯片出口1804亿，同比涨幅13.2%，全球市场份额已经来到了30%左右，背后需要ASML的光刻机提供动力。

当然了，中企之所以大量囤货采购ASML光刻机，终归还是应对国际技术封锁的应急策略。ASML通过有限的合作期限加快向中企供货，而中国则借此“空窗期”加速技术突破，实现国产替代的平稳过渡，这为中国芯片制造业提供了稳定、可靠的发展路径。