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“科技强国”这四个字已经在中国强调了许多年，从建国之初的贫困落后，到后面从制造业到重工业的奋起直追，我们见证了时代的改变。

而到了现在，国家之间的角逐已经转换到了科技的赛道上，一个国家拥有领先于全世界的高科技技术，那么还有谁敢小瞧？

而中国的科技发展虽然时间短，但是效率和成就极高，尤其是在对技术要求极高的领域也同样不逊色。

从上个世纪以来，我国的光刻机技术从无到有，再从跟随到领跑创新，这个过程虽然看似是一个“爽文”的过程，但是其中心酸也只有参与者才能体会了。

到了现在，我国的光刻机技术可以说得上是举世瞩目，并且也为我国的半导体事业提供了有力支撑。

在此之前，中国的光刻机主要依赖进口，技术发展受限，中国市场如此庞大，而光刻机市场被垄断之后，外企卖给中国的价格要远远高于其他国家，因为他们知道，就算再贵中国人也会买，因为中国需要。

长久以往，我国政府和相关企业越觉得这样下去不行，中国还是得要提供自己在半导体产业的技术，做出属于自己的成绩，不然只会让自己的位置更加被动。

于是带着期盼，我国开始着手布局光刻机产业。在2000年，“863”计划启动了，而这项计划的重中之重就是大力发展光刻机技术。

让光刻机技术早日成长成熟起来，政府在这方面寄予了十分大的期许，在那之后，我国涌现了一大批光刻机企业，大家都有一股干劲。

到了这里，很多人以为中国的光刻机技术就此崛起了，但是其实不是的，万事开头难，因为光刻机的技术门槛实在过高，所以在开始的时候我国依然还是处于跟随的阶段。

不过两年后，也就是1965年，我国研制出了65型接触式光刻机，虽然比不上国外的高级光刻机，但是起码这一步总算是迈出来了。

面对这一困境，我国意识到，发展光刻机技术对于半导体产业非常关键，于是开始着手布局光刻机产业。

而到了2010年我国的光刻机事业终于迎来了重要转折点，光刻机的技术发展不仅仅有了清晰的方向，更是有了创新化，一切都在往好的方向发展。

到了2015年，193纳尼光刻机的成功研发成功打破了国外在中国市场的垄断地位，这时的中国虽然还需要从国外进口高端光刻机，但是依赖性已经没有那么高。

也正是有有了这样的进步，为后面中国在半导体上的发展提供了技术上面的支持。而在今年，我国将会投入五十亿在光刻机工厂的建设上。

这代表什么？代表中国势必要在这一领域做出领先世界的成绩。纵使中国光刻机技术如今发展已经愈加成熟，但是并未达到顶尖水平。

如今市场上还是国外的ASML称霸光刻机市场，为什么说它们是称霸呢？因为在高端光刻机市场这一环，它们几乎已经垄断。

但是ASML光刻机的技术也的确高端，所以更多的企业和科研都希望用他们的技术来进行研究使用。不过这次中国如此“高调”的要搞光刻机工厂。

这也是让ASML感到有些许压力，毕竟如果中国真的研发出了与他们的光刻机技术相近甚至超越他们的技术，那么ASML将会结束他们在全世界光刻机市场的垄断地位。

对于他们而言，这是一个巨大的损失，所以站在他们的角度，当然是希望中国不要成功，又或者是这条时间线拉得越远越好。

在之前极紫外光（EUV）光刻机技术方面取得重要进展的时候ASML已经有些许慌张了，因为中国如此强大的创新能力让他们感受到了危机。

如今中国更是喊出了口号要在高端光刻机产业中闯出个名堂，这也难怪ASML会担心自己高端光刻机国际巨头的名头会被抢走。

所以大家也可以看到，虽然现在中国在各个领域都取得不错的成就，但是这些成绩的的来并不容易，从无到有是一个十分艰难的过程。

但是好在有了一个开始，后面的路也就有了方向。我们也希望在高端光刻机这条道路上中国能够带给世界更多的惊喜。

关于高端光刻机您有什么看法？欢迎评论区一起讨论！

信息来源：

大众日报：瞰天下｜光刻机：中国曾经站在世界“第一方阵”，有望再登高峰

https://dzrb.dzng.com/articleContent/17_1160642.html

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