我国的半导体产业起步较晚，说实话，在这个领域我们确实没有特别的优势，而在美丽卡对我们的半导体产业实行“断供”之后，光刻机便成为业内外共同关注的焦点。
这是因为光刻机是芯片制造的关键设备，尤其是EUV光刻机，要实现7nm芯片的量产没有EUV光刻机几乎不可能实现。
在“芯片规则”被修改的情况下，我们的半导体产业发展受到阻碍，尤其是在如今“全球缺芯”的大背景下，这让我们的芯片短缺问题更加凸显出来。为了突破芯片封锁，国内上下一心，加大在半导体产业的自主研发布局，致力于构建出一条完整的具有高度自主性的半导体产业链。
在国家的带领下，我国企业和科研机构联合高校都在积极攻克，在芯片制造工艺、原材料等方面都有了一定的突破，如物镜、双工作台、光刻胶、刻蚀机等都实现了攻克。此外，还展开了对半导体人才的培养计划，定下了到2025年实现70%自给率的目标。
ASML由于技术限制无法自由出货说到芯片制造，这就不得不提到全球最大的光刻机制造商——ASML了。ASML占全球80%光刻市场份额，不仅在DUV光刻机市场上规模可观，在EUV光刻设备上甚至形成了垄断事实。
国际知名的芯片大厂，如英特尔、台积电、三星等的EUV光刻机都是ASML提供的。
EUV光刻机供应链特殊，需要汇集全球四十多个国家超过5000家供应商，重要零部件多达十多万。而这些零部件主要由ASML和供应链共同研发，ASML自身也只掌握了18%的技术专利，EUV光刻机可以说是汇集了全球顶尖高科技企业的技术结晶。其中光学镜头设备主要由德国蔡司公司提供。
这其中也用到了一部分美技术，如光源技术主要就是美企提供的。也是因此，作为全球唯一能制造出EUV光刻机的制造商，ASML虽然是荷兰企业，但却被美限制，无法对我们自由出货EUV光刻机。
中芯国际就曾为了加快芯片制程进展耗资十亿向ASML全款订购了一台EUV光刻机，但直到现在，整整三年过去了，这台光刻机仍然未能在我国境内落地。
哪怕是较低制程的DUV光刻机，所需零部件也超过50000，从这也可以看出要造出一台光刻机有多不容易。
上海微电子宣布国产光刻机新消息为了早日实现芯片自由，自研光刻机是我们的主要目标。虽然目前还无法研发7nm以下制程所需的EUV光刻机，但DUV光刻机还是能追赶的。如今我国光刻机厂商上海微电子就传出了国产光刻机的好消息。
据悉，上海微电子如今已经实现了28nm光刻机的研发，并通过了认证、检测环节，将在今年年底，最晚明年交付商用。这意味着在28nm制程方面，我们实现了完全的自由。
大家知道光刻机的制造研发有多难，我们的企业能在老美的重重技术封锁下实现突破并非易事。虽然如今我们的光刻机制造技术与ASML相比仍有一定差距，但饭要一口一口吃，高端光刻设备的研发并不是一蹴而就的。这不仅需要大量的资金支持，还需要长时间的研发加上大量的技术积累，人才也是不可忽略的重要组成部分。
要知道，上海微电子成立仅20年，而ASML公司已成立38年，从这就能看出，我国光刻机制造的研发比ASML晚了多少。经过十几年的技术累积，上海微电子已经成功掌握了高亮度LED光刻机、封装光刻机技术等。这在一定程度上打破了我们对进口光刻机的依赖。
如今上海微电子的封装光刻机技术已经应用于一些国内智能手机，占据我国光刻市场80%以上的份额。
写在最后在对我国企业实行光刻设备出货限制的时候，ASML首席执行官 Peter Wennink就曾对老美发出过警告，表示这并没有好处，反而会使我国加大在半导体产业的进程，减小对进口光刻机的依赖。
如今来看，确实是这样。缺啥造啥一直是我国的优良传统，凡是想限制我们的，最终都将成为我们科技更上一层楼的突破点。
如今我国已经是全球最大的芯片消费市场，全球有60%的芯片都出口到我国。而随着我国在半导体产业上的发展，我们的芯片自主供应也逐渐提高，芯片进口数额正在慢慢减少，相应的对光刻机的需求也会增大。
限制ASML对我们的出货，反而成了对ASML的限制。毕竟如今美地区的半导体产业已经自顾不暇，连续三年对ASML的营收额贡献都在下降。
为了满足国内芯片制造的需求，我国企业也购买了大量的二手光刻机，在去年佳能的一台二手光刻机甚至价格涨了十多倍。
相信随着技术和人才的积累，在过不久的时间，我们终将打破老美施加给我们的重重桎梏，实现芯片自由。对此大家有何想法，欢迎在评论区留言、点赞、关注、分享。
