为探索半导体行业的发展机遇，交流技术经验，促进行业的转型升级，4月19-21日，鹏城半导体受邀参加了为期三天的首届中国光谷九峰山论坛暨化合物半导体产业发展大会。

首届中国光谷九峰山论坛暨化合物半导体产业发展大会是在湖北省和武汉市政府支持下，由武汉东湖新技术开发区管理委员会、第三代半导体产业技术创新战略联盟（CASA）、九峰山实验室、光谷集成电路创新平台联盟共同主办，目的是进一步聚焦国际半导体光电子、半导体激光器、功率半导体器件等化合物半导体技术及应用的最新进展，促进化合物半导体产业全方位、全链条发展。

在本次大会上，鹏城半导体展示了HFCVD 热丝法化学气相沉积、PECVD 等离子体增强化学气相沉积、高真空磁控溅射、高真空电子束蒸发镀膜机、分子束外延系统MBE、LPCVD低压化学气相沉积等自主研发产品及系统解决方案，吸引了众多参会者的目光。与会者纷纷前来咨询和了解产品信息及解决方案。鹏城半导体并与业界专家、学者和企业家共同探讨行业发展趋势和未来发展方向。

鹏城半导体将继续致力于微纳技术与高端精密制造的研发和生产,不断提升产品质量和性能,为用户提供更加优质的服务、产品及解决方案。同时,鹏城半导体也将积极参与各类行业活动,为行业的发展和壮大做出自己的贡献。