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众所周知，如今的中国正处于从工业大国转向科技大国的关键时期。
并且我国也已经在多个领域成功取得了突破，甚至在一些技术方面已经赶超欧美。
然而国际市场上的“蛋糕”一共就那么大，中国科技得以发展也就动了其他国家的“蛋糕”。
作为世界上最大的科技大国，美国便开始对中国展开种种限制，作为科技发展必不可少的光刻机，便成为了他们限制中国的重要方式。
美国自出台芯片法案之后便对中国进口光刻机层层施压，于是我国老百姓便希望能够实现全自主研发光刻机。
然而不久之前中科大副院长的一番话，却打破了我们自主研发光刻机的希望。
他称光刻机连美国都造不出来，中国更是没有任何希望。
此番言论一出立刻引起了网友的不满，认为这是在给中国科技发展“泄气”。
那么中国真的造不出光刻机吗？中国芯片要如何实现突破呢？
中科大副院长说出群愤言论光刻机是芯片制造领域至关重要的设备，其精度就直接决定了芯片的质量和性能。
目前国际社会中最先进的光刻机，就是荷兰ASML公司所研发的光刻机，中国也一直都通过进口ASML公司的光刻机来实现芯片的自给自足。
然而自美国出台芯片法案之后，中国芯片便受到限制。
朱士尧教授前段时间在接受采访时表示，美国是世界上数一数二的科技大国，如果连这样的国家都无法造出最好的光刻机，那么中国也永远都无法建造出属于我们自己的光刻机。
与此同时朱士尧教授还表示，光刻机的制造不仅需要尖端的制造技术，更是要多个国家共同合作。
光刻机的研发和制造涵盖了光学、流体力学、材料科学以及精密器械等诸多领域。
中国在一些领域很难再短时间内达到国际先进水平，因此若是中国想要自主研发出高端光刻机，也同样是一件极其困难的事。
朱士尧教授再说出这番言论之后立刻引起了社会的热议。
有很多网友对他的观点表示强烈不满，认为当前中国在科技领域已经取得了许多重大突破，而朱士尧的观点明显低估了中国科研人员的能力和潜力。
他们认为虽说光刻机的研发困难重重，但只要给中国时间，就一定能制造出属于我们自己的光刻机。
不过还有部分人认为朱士尧的观点是务实的，光刻机的制造确实涉及到了多个国家共同合作，技术难度常人难以想象。
因此中国若是想要单凭一己之力研发出光刻机，在短时间内是不可能的事情。
经过此次事件之后有很多人都产生了疑问，从当前中国所遭受的限制来看，想要实现半导体领域的发展，光刻机是重中之重。
那么若是想要研发出一台光刻机，到底有多困难呢？
想造一台光刻机到底有多难光刻机主要是通过紫外线光将电路图精准的刻画在硅晶圆上，这就需要光刻机具有极高的精度和稳定性。
光刻机的精度越高，制造出来的芯片精度也就越小、内容更加复杂，这对于发展高科技有着非常重要的意义。
目前世界上最先进的光刻机为EUV光刻机，其波长仅有13.5纳米。
然而制造一个光刻机需要多个学科的尖端技术，其中最为关键的就是光刻机的镜头。
光刻机需要产生具有极高能量的紫外激光，这需要通过特殊的反射镜材料才能实现。
不仅如此，光刻机的光学系统也必须要在极高精度下对光束进行聚焦和控制，这对于光学元件的制造和装配也有着非常高的要求。
除了技术之外，想要制造一台高端光刻机还必须要有庞大的产业链。
我们以荷兰的ASML公司为例，这家公司制作一台光刻机所涉及到的供应商数量就多达上百家。
其中涵盖了精密器械、操控软件、光学元件以及激光器等多个领域，即便是如今科技实力最为强劲的美国，想要凑齐这么多家尖端企业也非常困难。
现在的中国岁虽说已经在一些领域取得了重要突破，但因为整体产业链的配套仍然不足，所以很难实现光刻机的自主研发。
如今我国所使用的高精度光学元件和一些特殊材料，仍需要从国外进口，而这些也同样都在西方国家的限制清单之中。
按理说西方国家对中国的限制层层加码，我国的高科技领域发展必然是困难重重。
然而我国的高科技产业非但没有受到影响，反倒频频传来好消息。
那么我国现在所使用的高端芯片到底从哪里来呢？
现在中国高端芯片从哪来虽说美国对我国高端光刻机进行了一系列限制，但是我们却依然能够通过第三方来获取部分高端芯片。
中国的很多企业都已经在他国设立了子公司，通过这些子公司，我国便能够采用第三方渠道让来自美国英伟达和ADM的芯片进入中国。
虽说用这种方式获取的高端芯片数量有限，但也能够缓解我们当前所面临的困境。
除此之外我国还在不断加大高端芯片方面的研发，以实现芯片的国产化，从而减轻对西方国家的依赖。
我国的中芯国际也同样在不断提高芯片制造的技术水平。
目前中芯国际已经能够自主生产14nm工艺的芯片，并且还在不断向更高端芯片技术方向迈进。
中国企业还在与韩国、日本等国家的半导体企业展开合作，这也能够提升我国芯片技术，缓解当前“缺芯”的问题。
目前我国正在不断加速构建自主可控的半导体产业链，并且也在不断完善从过芯片设计、制造到封装测试等全产业链布局。
如今我国已经有多个领域的芯片都已经达到了国际先进水平。
这些突破和成就，实际上都为我国未来的技术突破奠定了基础。只是从目前的情况来看，光刻机仍然是当前需要面临的最大难题。
那么如果一直都没有拥有高端光刻机的话，我国是否还能够在芯片技术领域成功取得突破呢？
造不出光刻机半导体如何突破中国在光刻机领域虽说起步相对较晚，但是我们却已经在光刻机制造领域取得了一定的突破。
如今中国已经成功实现了DUV光刻机的自主研发，能够用来制作14纳米进程的芯片制造。
虽说与国际先进水平仍存在一定差距，但也让我们看到了发展光刻机的希望。
虽说光刻机发展的前路困难重重，但是中国依然能够通过多种策略来实现自身在高端半导体领域的发展。
目前中国已经意识到了自主研发芯片的重要性，并且在这一领域投入了大量的资金。
这为后续中国半导体领域的发展提供了重要基础。
而人才也是我国当前最严峻的考验。
如今中国为半导体领域的人才提供了重要的政策支持，并且也为相关人才提供非常丰厚的待遇。
这能够吸引大量海外高端人才回国，也能够通过与国际顶尖科研机构和企业的合作，加速我国人才的培养。
目前我国除了在传统的光刻机技术加大力度之外，我国还在探索其他可以实现的技术路径。
就比如量子芯片、光子芯片和芯片堆叠技术。
这些技术都被证实有实现高精度芯片的可能性，一旦中国在这些方面取得成功，将有希望能在未来实现弯道超车，摆脱西方国家的限制。
中国科技产业的发展将会是必然趋势，并且从当前的情况来看，美国对中国半导体产业的发展非但没有松口的意思，反而还逐渐出台新的限制措施。
但即便是限制层层加码，我国也绝对不会停止我们前进的脚步，突破美国限制的那一天，就是我国实现科技化强国的那一天。
结语光刻机的制造十分复杂，需要多个国家共同合作才能制造出高端光刻机。
因此朱士尧教授所说的话虽说难听，但是却也是当前我国光刻机确确实实存在的现状。
目前任何一个国家都无法自主制造高端光刻机，只是目前没有也不代表着以后没有。
目前中国已经在光刻机光源方面取得了重大突破，在镜头方面仍然存在短板。
如今中国正加大半导体领域的投入和研发，而中国有着非常完整的工业体系，凭借这些优势相信中国一定能够在光刻机领域取得突破，从而让中国科技得以飞跃。
而我们也要理性的看待光刻机技术，相信时间和努力一定会带领我们取得成功，在国际科技领域占据一席之地。
【参考资料】
热点微评 2023年2月25日 从7nm到5nm：国产光刻机的突破，从告别自嗨开始
中国工业报 2022年9月24日 面对美国禁令打压，“中国芯”如何破局？
南友看天下 2024年9月18日 中科大副院长雷人言论：美国都研发不出的光刻机，中国永远造不出
阅微札记 2024年9月17日 中国造不出光刻机？中科大副院长：美国都造不出来，中国更不可能
