外媒：ASML正面临着挑战

事实上，ASML的名气并不大，就算是光刻机，也没有人知道。正是由于芯片禁令的存在，以及全球范围内的缺乏，ASML才成为了主流，成为了与光刻机同时代的存在。

甚至没有人知道，尼康、佳能，都是日本的，也是光刻机行业的老大。目前ASML几乎是中高端光刻机的垄断，但同时也面临着巨大的挑战。

第一点，竞争者正在加速布局

八十年代之前，美公司GCA是世界上最早的光刻机制造商，尼康、佳能等公司，都是供应光刻机的，这段时间，他们也学习了很多技术，但随着日本的芯片发展，他们也开始了自己的研究。

尼康在1981年推出了自己的第一台步进式光刻机，随后美公司GCA被淘汰，佳能也开始生产光刻机。从80年代到10年前，尼康占据了50%以上的光刻机市场，其次是佳能。

2004年，ASML研制成功了ArF没光刻机，2007年EUV，成为了行业的主宰。

ASML在过去的20多年里，一直占据着高端EUV光刻机和中端DUV光刻机的市场份额，而佳能、尼康等公司，则是被远远的抛在了后面，只能生产一些中低端的光刻机，而佳能，则是最低端的。

但尼康、佳能等公司，显然不愿意落后，前段时间又有了新的动作，他们的计划也在加速。

尼康公司一直致力于ArF的浸入技术的开发。尼康公司前段时间制定了一个新的目标，那就是到2026年三月，将光刻机的产量提升一倍。

第二种是不断涌现的替代技术

尼康也在研究3D晶片的光刻机，同时也表示，除了英特尔之外，他们还会拓展日本和中国的客户。

佳能前段时间宣布，它将在新的半导体器件工厂上投入500亿日元。这是佳能在过去21年里，首家新的光刻设备工厂，其目标自然是要扩大光刻设备的生产。

佳能这些年的销量，甚至超过了尼康，但他们的产品，都是KrF和光刻机。

佳能也很强，在光刻机行业发展了52年，但一直没有做出正确的选择，最终还是落后了ASML,EUV也做不到。

佳能与日本的“铠甲”公司正在积极开发NIL的奈米压印光刻机技术。这个技术，可以在不使用EUV的情况下，实现更小的芯片，并且在15nm左右的范围内，将在2025年达到5nm。

这项技术不仅在实验室中应用，而且已经交付给了东芝的存储工厂，未来的发展空间很大。

第三，已有技术已接近尾声

事实上，不止是日企业，俄罗斯也在研究X光光刻机。前段时间又有报道，美公司的0.768纳米光刻机，比EUV的精度还要高，也是世界上分辨率最高的。

像是光子芯片、量子芯片等，都不会再用EUV了。

虽然这些技术都是EUV的替代品，但也有一些问题，比如无法大规模生产，比如无法使用EUV，但随着技术的发展，技术的发展，一切都有可能。

除了EUV的替代品，ASML公司的技术总监前段时间还说，目前的EUV技术也已经接近尾声。当前EUV光刻机可以在7、5nm工艺上应用，3nm工艺也是可行的。

在2nm以下，对EUV的需求越来越高，ASML公司推出了0.55nm的新型光刻机。

ASML的技术总监说，Hign-NA以后很有可能是Hyper-NA，但是Hign-NA会是Hyper-NA，但是Hign-NA会是最终的NA，以后很难达到。

上述这些都是ASML目前所面对的问题。纵观光刻机的发展历程，只要掌握了一项技术，就能迅速抢占市场，而那些跟不上的企业，则会被远远甩在后面，ASML也是如此。

所以，我们要意识到，ASML也不是无敌的，我们要面对光刻机的不足，在努力追赶的同时，也要不断地研究新的技术，让自己的产品更上一层楼！