这个消息一出，连ASML都坐不住了。为啥这么说呢？且听我给大家细细道来。

说到芯片制造，就不得不提到一个"神器"——EUV光刻机。这玩意儿就像是芯片制造界的"显微镜"，能把芯片做得又小又精密。但问题是，全世界就荷兰的ASML能造，而且还不卖给咱们。

这些年，美国带头组了个"朋友圈"，联合日本、荷兰等国家，就是不让咱们买高端光刻机。他们以为这样就能把咱们"锁"在14纳米以上的工艺水平。可是他们万万没想到，华为今年的Mate70直接给了他们当头一棒！

大家应该都知道，Mate70用的是7纳米工艺的麒麟9020芯片，性能一点不比台积电4纳米的骁龙8+差。这说明啥？说明咱们已经找到了突破封锁的办法！这可把ASML给整慌了。

ASML赶紧出来说话了，说是中国虽然进步很大，但没有EUV光刻机，跟台积电他们还有10-15年的差距。啧啧，这话说得，怎么听着像是在给自己打气呢？

但是哈工大这次的突破，直接给ASML来了个措手不及。樊继壮教授团队研发的放电等离子体极紫外光源，不仅能提供13.5纳米的极紫外光，还具备能量转化率高、造价低、体积小等优势。简单说就是：便宜、好用、还省地方！

更厉害的是，长春光机所也搞出了另一套激光等离子方案。这就意味着，咱们在EUV光源领域已经有了两套可选方案，这叫什么？这叫双保险！

不光是光源，在双工件台系统、物镜、EUV多层膜等核心技术上，国内也都攒了不少真本事。现在的情况就像是在搭积木，各个零件都在往上垒，早晚有一天能搭出完整的"大楼"来。

国外媒体都看出来了，说中国在芯片领域的崛起已经基本挡不住了。想想也是，当年盾构机不也是国外垄断的吗？现在呢？国产盾构机不但自己用，还便宜得跟白菜似的出口。

最后说句实在话：芯片的发展不是一蹴而就的事，需要脚踏实地、稳扎稳打。但是只要方向对了，再难的坎儿咱们也能迈过去。相信用不了多久，咱们就能看到国产EUV光刻机横空出世的那一天！

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