为何收购被誉为ALD技术起源的倍耐克公司？

幻实（主播）：本期节目我们邀请到了青岛四方思锐智能技术有限公司董事长聂翔聂总，请聂总和大家打个招呼。

聂翔（嘉宾）：大家好，我是青岛四方思锐智能技术有限公司的聂翔。

芯片揭秘主播幻实（左）对话青岛四方思锐智能技术有限公司董事长 聂翔（右）

幻实（主播）:思锐智能可能大家听起来比较陌生，但它的股东背景很豪华，请聂总给我们简单介绍您和你的公司。

聂翔（嘉宾）:就我个人经历而言，前20几年，我主要专注于轨道交通的国产化，从中车的基层一直到子公司的高管。我们也知道轨道交通这个领域被总书记誉为国家名片，最主要的产品就是高铁。我本人也是完整经历过高铁的引进、消化、吸收、再创新的过程。

青岛四方思锐智能技术有限公司的创立说来话长。众所周知，整个原子层沉积技术的发明来源芬兰，当时在“走出去”，寻求海外技术拓展的大背景下，中车的一级子公司-中车四方所成立了思锐智能公司，从而100%股权收购了芬兰倍耐克公司。思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系。

幻实（主播）:整个过程都是您亲历的吗？

聂翔（嘉宾）:是的，从项目的识别到项目的运作，项目谈判到项目封闭都是我主持的。

幻实（主播）:收购海外这家有历史渊源的公司本身就是不容易的，很多人可能会觉得我们只要做点小股东就好了，你们为什么要用完全控股的身份去做这件事，尤其是派您专门去组建这样的公司，是什么样的考虑呢？

聂翔（嘉宾）：

一方面，从我本身的工作经历来说，我们的海外的交流很多。我以前所在的四方所，实际上和很多国际头部公司都有紧密合作，所以在长期工作中也跟海外有了非常好的交流。

另一方面，我们也发现在北欧这样的国家，其实有很多小而美的公司，它们的技术既专又精，比如我们当时收购的这家公司，因为对ALD有几十年的积累，因此有非常深厚的技术积累，同时在当时做的一些小型科研设备在全世界的大学和科研机构里享有盛誉。在国内，当时北大、清华、复旦、中科院微电子所等都是买他们的设备来做一些前沿的研发。

但是，他们在推动自身的发展上来说，不管是资金、全球化的视野，还是他们的产业链管理，我们觉得还是有一定的短板，如果能够很好地控股它，甚至直接并购，按照新的战略思路去调整它，可以使这家公司更好地发展。

这其实也是原来的股东能和我们交易的特别重要的一点，他们觉得自身的能量和架构可能不足以推动这个企业更好更快地发展，所以最终促成了这样的合作。

思锐智能公司正式收购芬兰倍耐克公司100%股权（图源：网络）

打破国产空白！拓展离子注入新赛道

幻实（主播）：我们知道ALD是一个要和半导体工艺深度匹配发展的一个小型应用方向。再看芬兰，如果连半导体先进制程的产线都不是这个国家发展的重点，那么这家公司想要发展这个行业，确实会觉得很需要我们的助力。从2018年组建这个公司到现在，我们取得了什么样的阶段性成果？

聂翔（嘉宾）：从2018年的9月交割这个项目到现在，在ALD这块，我们自己总结为“一个双转型”，即从科研设备向工业量产型的转型，从泛半导体向半导体的转型。

具体来说，在收购它的时候，它的大部分业务比重在科研市场--一些非标的或定制的科研市场，虽然产品在全球市场都有分布，但是总体体量并不大，而且工业量产型设备的工艺开发难度实际上是非常大的。

为此，我们投入了很多资源，要搞半导体，我们需要有洁净的环境、必要的实验装备，同时我们整体做了联合的研发。我们国内的半导体需求是非常旺盛的，通过一些需求传递，国内外技术团队的整合，很快我们就共同研发出了 Transform系列，这个设备在包括功率器件、射频芯片、MEMS等领域都取得了不俗的成绩。

再看第三代半导体，针对GaN领域，我们已经得到了全球头部客户的认可，有一些重要的客户已下了重复订单。

幻实（主播）：这是一个很好的认可。

聂翔（嘉宾）：是的，因为从我们现在国内的半导体装备市场来看，能够取得全球客户的认可是不多的。我们在欧洲、日本、美国都有头部客户，当然，我们在国内同样拥有一批做氮化镓的头部客户。

再看碳化硅SiC市场，这方面我们也取得了不错的进展，虽然目前碳化硅在平面结构上用ALD比较少，但随着整个碳化硅器件的深入发展，那么它逐渐转向一些沟槽，叠层这些结构的话，就必然会用到ALD，所以我们在欧洲也常年和IMEC这样的顶级研发机构合作。

幻实（主播）：

听起来我们在赛道上已经能够和国际最前沿的趋势走在一起了。除了ALD我们现在还有其他的产品方向吗？

聂翔（嘉宾）：

我们从18年开始深耕ALD，刚才说的实际上是半导体方向，面向泛半导体，我们还有针对光学和能源领域的产品。光学和能源市场，从容量来说，一点都不比半导体小。比如说能源市场有锂电、钙钛矿，这些都有很好的应用。

除了ALD设备之外，我们也在思考是不是应该再做一些其他设备的研发。其实从2021年在我们整体推进ALD双转型的同时，就已经开始布局新的业务，比如离子注入业务。

思锐智能ALD原子层沉积设备Transform（图源：思锐官网）

幻实（主播）：

离子注入和ALD之间的技术路线有什么关联性吗？为什么选离子注入？

聂翔（嘉宾）：因为ALD在半导体领域来说，它是前道设备的一部分。

做半导体前道最主要的几个步骤就是光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入，这就是最核心的几步。可能除了光刻机以外，离子注入机是公认难度仅次于光刻机的设备，它的技术壁垒非常高，投入也非常大，在国内还是特别急需这样的业务。

我们从ALD整合海外的资源，到进行国内联合研发，再到消化吸收再创新，我觉得已经走出了一条比较有效的实践之路。所以在这个时候我们就选择了一个国家急需突破的、难度非常大的、需要长期投入的环节，整体上再去突破这样的一个核心领域。

“引进、消化、吸收、再创新的”模式对国内半导体产业的影响

幻实（主播）：所以这个过程也是充满了战略上的选择和判断，您从事高铁行业20年，然后又投身于一家核心设备的公司，从大型的国企到投身产业，您觉得“引进、消化、吸收、再创新的”这样的模式有哪些值得借鉴的地方？

聂翔（嘉宾）：

从我们自己自身做装备来说，我们感觉整体上国内起步比其他的国际巨头要晚，不管是从市场的规模总量来说，还是技术的积淀来说，都存在一定的差距。但是现在我们国家不管是面对外部环境的态度，还是内部大力发展集成电路的决心，以及一些国家扶持的资金政策，给人的整个向上的精神面貌是有目共睹的。

我们每年都可以看到有新的公司或者新技术的发布，可以看出我们整个行业在国家政策大环境的牵引下，整体突破速度是非常快的，如果按照这样的状态，我对我们整个装备或者零部件的国产化率达到一个比较好的水平非常有信心。

思锐智能高能离子注入机SRII-8M（图源：思锐官网）

幻实（主播）：所以您并不觉得这个事是一件很难完成和突破的事，毕竟高铁是做到了成为中国的名片，走向全球。像芯片虽然发展受到了一些阻力，国际形势也有一些变化，有很多人的信心确实也受到了打击，但今天您说的这些话，确实是一个更加乐观的角度。

聂翔（嘉宾）：从长远的角度来看，我肯定持积极乐观的态度。但具体到一个项目或者一个点，甚至到一个零部件的话，确实遇到的困难非常大，我们自己做装备，也切实地感觉到有一些部件的可靠性、应用可能会短缺，这是我们面临的现实。

我们自身的做法不是光闷在家里自己干，我们十分注重对外交流，只有和国外的顶级公司和研发机构尝试交流，才可能保持技术和世界主流的技术同步，甚至跟进。如果只是单一地模仿复刻主流设备，那么就总是在复刻别人的前一代。

幻实（主播）：

面向未来5~10年，咱们这家公司有没有更大的规划和发展想法呢？除了目前的两款产品还会做更多的产品吗？

聂翔（嘉宾）：从短期规划来说，我们不太想再扩展一个新的业务线了，因为ALD和 IMP这两个设备其实都是我们半导体装备的核心装备。

幻实（主播）：这两个都是很难做的设备。

聂翔（嘉宾）：是的，如果想把它们做好，还需要非常大的投入，所以我觉得在较短的时间里我们一定要把这两条业务线做扎实。同时我们特别追求在全球化方面的成功，我们并不希望只被定义为做国产化替代，我们希望我们的产品在国际的一流厂商中得到应用，所以我们在欧洲、美国、日本都有公司也是出于这个目的。

幻实（主播）：那您觉得海外的市场跟中国的市场比起来哪个更卷？

聂翔（嘉宾）：我觉得中国更卷一些。从整个市场来说，我们在一些传统的非中国市场内，遇到的几家都是老牌的供应商，企业年龄大概都有几十年，我们彼此都很熟悉。在中国，我们会不断面临新公司的涌入。这很正常，因为大家都在投身这个行业。所以如果用“卷”现在的定义来看，国内市场确实竞争蛮激烈的。

幻实（主播）：

现在还远远没有到角逐最终胜者的时候，很多玩家都在跃跃欲试的走进来。

聂翔（嘉宾）：就我们前端装备来说，核心装备的国产化率都比较低，但我相信未来在一定时期内，这些装备都会成为国产化装备。

幻实（主播）：感谢聂总做客芯片揭秘，最后，您有没有什么想借我们栏目平台对外发声呼吁的？

聂翔（嘉宾）：其实做国产化装备这条路仍然需要特别大的投入，也需要长期的坚持。从企业本身来说，我们的使命和责任就是要把我们自己的产品做好，也希望整个行业有更多为我们国产化装备提供机会的契机，助力我们更好地迭代改进。

离子注入机与光刻机、刻蚀机和镀膜设备并称为芯片制造的四大核心工艺装备。离子注入机在晶圆制造工艺设备的市场规模中占比3%左右，与CMP设备、热处理（退火、氧化、扩散）、涂胶显影机等的市场规模基本相当。全球离子注入机市场规模：目前25亿美元，远期40亿美元。当前，离子注入作为掺杂工艺的主流技术正在半导体的众多细分领域中被广泛应用，而离子注入机的制造，不仅涉及多个学科的知识范畴，更是除光刻机以外，技术难度最大、国产化率最低的前道工艺设备，是机遇与挑战并存、等待全面攻克的难关之一。

离子注入技术在半导体制造中的应用已经深入人心，它的高精度、高均匀性以及多样性为现代电子工业带来了巨大的优势。随着技术的不断进步，我们可以预见，离子注入技术将在未来继续为微电子工艺的发展做出更大的贡献。对于那些致力于探索半导体技术前沿的研究者和工程师来说，深入了解和掌握离子注入技术是至关重要的。

-END-

采访 | 幻实 编辑 心怡 | 审核 | 超超