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太炸裂了！荷兰刚刚宣布完加大光刻机的出口管制，就在全国网友发出强烈的抗议时。我国工信部非常低调地公布了一则消息。
这则消息低调到什么程度？没有任何解释，没有任何宣传文案，只有一个表格和几行简短的文字。
然而，对于了解半导体行业的人来说，这条消息简直可以载入史册，几乎与我国第一颗原子弹研发成功的地位相当。
这些看不懂的文字和技术参数，都在向世界宣告：中国已经成功研发出了国产光刻机。
这不是某项技术突破，也不是停留在实验室里的理论，而是我们真真正正造出了属于中国自己的光刻机。
外网已经炸开锅随着消息的广泛传播，外国媒体都尚未来得及报道，外国网友已经在“油管”上炸开锅了，有人惊呼怎么可能？
也有人拍手叫好：中国打破了美国阵营的技术垄断，中国光刻机的研发成功，势必会为弱小国家带来福音。
我们来看看各国网友是如何评论中国成功研制光刻机这件事。
荷兰网友说：中国技术迎头赶上，未来的1-2年，阿斯麦应该会后悔拒绝把光刻机卖给中国。
另外一个荷兰网友却说：EUV光刻机的专利和技术都是荷兰阿斯麦所有，假如中国真的研发出了光刻机，荷兰阿斯麦公司不允许的情况下，中国不可以向世界各国销售芯片。
美国网友则说：在90年代，中美关系蜜月期时，出版了许多关于中美友好关系的书籍，看来，美国现在应该要和中国重新建立友好关系才行。
巴西一位网友说得更搞笑，他说：中国人在许多领域都很厉害，只要他们愿意，他们都有可能赶超西方水平，不过足球除外。
一位美国网友看到巴西网友的话后，酸溜溜地说：“幸好中国还有足球这件事无法超越我们，我的心情稍微好点了。”
韩国网友的反应就很特别了，这位韩国网友宣布：“其实这是中国和韩国的一项合作，我们在视频里看到的只是一个属于韩国的游戏界面，中国都还没给我们支付版权费用呢。”
而我们中国网友，除了为祖国感到骄傲外，人们更关心的是，这台刚被研发出来的光刻机，到底是一个什么样的水平？
中国研发出的光刻机能生产什么级别的芯片？首先，我们先来看看这次工信部公布的两台光刻机的参数。
一台是氟化氪光刻机，波长248纳米，套刻精度小于或等于25纳米，而另外一台氟化氩光刻机，波长为193纳米，套刻精度小于或等于8纳米。
先来解释几个名词，第一个是波长，波长越短的光刻机，就可以制作出精度更小的芯片。
而套刻精度是什么意思呢？.
不少文章和自媒体都错误地把套刻精度当成了芯片规格，实际上套刻精度指的是光刻机运行时的误差范围。
了解完这两个参数名词后，我们再来根据阿斯麦的光刻机级别分类，EUV光刻机的波长为13.5纳米，而DUV系列的波长更长，又分成浸润式和干式两种类型。
DUV光刻机的波长理论上最短可达到193纳米，但如果通过水的折射，波长还可以减小到134纳米，这就是浸润式光刻机的原理。
浸润式光刻机可以生产出7纳米级别的芯片。但是7纳米以下的，就需要到EUV光刻机了。
理解了光刻机的分类后，我们来对应我国这两台光刻机是什么类型。氟化氪光刻机的波长为248纳米，对应的应该是KRF光刻机，属于第三代干式光刻机，适合用于制作180纳米级别的芯片。
而氟化氩光刻机的波长为193纳米，对应的是ARF光刻机，也是干式光刻机，理论上适合用于生产28-45纳米的芯片。
如此一来，此前中国制造的7纳米芯片到底是从何而来，如今总算是在技术层面破案了。
虽然说，干式光刻机理论上顶多只能生产出28纳芯片，但是这并不代表它生产不出精度更小的芯片，只不过是良率问题罢了。
如果在双重复刻和芯片封装技术的双重加持下，把28纳米提升到7纳米，也是有可能实现的，只不过次品率高了一些，这可能就是英伟达老板黄仁勋，之前说过华为能够生产出7纳米的芯片并不奇怪的原因。
综上所述，这次我国研发出的光刻机，理论上是可以生产出28纳米或以上芯片，如果我们不计成本地生产，还是有可能生产出7纳米芯片，在一定程度上，有效缓解了我国高端芯片被美国制约的困境。
这两台光刻机对我国的意义许多人看到这里，也许会大失所望，说来说去，还是生产低端芯片的光刻机。
我国不是早已经从荷兰那边进口回来不少中低端DUV光刻机了吗？为何还要费那么大力气去研发这种光刻机？
如果你是这么想，那就大错特错了。虽然我国早就提前部署，从荷兰进口了不少DUV光刻机，但是这几年，随着美国的打压，阿斯麦公司相继禁止了对我国出售EUV和浸润式DUV光刻机。
不仅如此，就在不久前，阿斯麦还宣布从明年开始不会再为我国提供光刻机售后服务，甚至他们还可以远程在荷兰按下暂停键，让我国所有光刻机停止工作。
了解了这些后，你还觉得这两台光刻机对我国没有意义吗？
虽然说，这两台光刻机还不能解决我国手机产业的芯片需求，因为如今大部分高端手机的芯片至少是7纳米以下规格。
但是像新能源汽车、智能家电、工业设备等领域，对芯片的要求并不像手机那么高。因此，这两台光刻机的问世，至少能解决掉手机以外领域所需。
同时，千万别小看了我国的研发能力，在我国科研历史上，早就给出了答案，我国从0到1需要花费的时间或许长了些，但是由1到100却发展十分迅猛。
就拿航母来说，我国从没有航母到第一艘航母的诞生，我国走了多少弯路？受到了多少国际上的白眼？然而自从大连号正式服役后，我国的航母和大驱像下饺子一样，一艘接着一艘地造。
回到光刻机这个话题，如今虽然我们只研发出了干式光刻机，但是要知道，干式和浸润式的差别就相当于粗毛笔和细毛笔的差异，粗毛笔都做出来了，还怕未来做不出精细的毛笔吗？
可能也有人说，那EUV呢？当然，EUV光刻机与DUV是两个不同的概念，我国并不是不具备这方面的研发能力，而是EUV光刻机的重要技术和零配件都分别被德国、日本、美国掌握。
饭要一口一口吃，路要一步一步走。我们只要先在DUV领域站稳脚跟，相信EUV问世应该不会太久。
为何这么说呢？许多人看到工信部这次公布的一堆清单时，眼光只聚焦在了光刻机三个字上，但实际上，这一堆清单不止是宣布光刻机研发成功，还包括了芯片生产所需要的各种设备。
这也就是说，我国为了摆脱美西方的制约，几乎从所有设备源头上，都在朝着自主研发的方向发展。
另外，值得注意的是，我国的企业也早已在EUV领域展开了研发，并且已经取得了部分专利成果，只不过可能是为了避免被西方觊觎或窃取机密，这些信息都非常低调，并未有太多的宣传。
因此，EUV光刻机应当也是按照DUV光刻机研发方向进行的，我们唯有解决了EUV所需的零件、软件这些核心因素，才能生产出属于中国人自己的EUV光刻机。
参考资料：
1、 IT之家：中国国产DUV光刻机迎来里程碑式进步，套刻≤8nm
2、 新浪财经：全新国产DUV光刻机曝光：“套刻≤8nm”是个什么水平？
3、 新浪财经：媒体曝国产DUV光刻机成功研发，这意味着什么
