科技日报曾发表系列文章报道制约我国工业发展的35项“卡脖子技术”，在社会上引起了广泛的关注与讨论。这些被卡脖子的技术有的是急需要解决的，有的则是心腹之患。面对这些问题该怎么办？能不能够弯道超车？对于弯道超车这个问题，其实很多人的看法是这样的：一些先进的技术已经发展了几十年，经过了很多次的迭代与更新，这些技术的原理大家都是知道的，只是在经验积累与迭代上落后了，而这个差距又不是短时间之内可以弥补的，因为这需要基础科研的进步以及技术经验的积累。

我们拿几个问题来说吧，比如像科技日报列举的35项卡脖子技术中，例如芯片、光刻机、工业软件、医学影像设备原器件等等，这些都不是能够在短时间之内超车的领域，对于这些高精尖的领域，国产的与这些在设计原理上并没有多少差异，主要是在“代差”方面的差异，比如像光刻机，我国生产的光刻机加工精度是90纳米，但是这只相当于21世纪初奔腾四处理器的水准，在临床医学中，过去手术室里的设备一直被飞利浦、西门子、通用电气、德尔格等外国品牌垄断，现在虽然国产的精密仪器已经开始进入到手术室中，但是在精密外科的显微镜上还存在不小的差距。

芯片、光刻机

众所周知，CPU芯片是计算机领域最基础的核心技术，我们在这方面是受制于人的。虽然我们有国产的芯片，但是市场占有率太低，性能也比不上。从现在世界范围来看，芯片行业已形成垄断局面，但这并不代表我们没有机会。芯片行业，一口是吃不成一个胖子的，搞芯片就离不开大量的芯片技术人才以及资金投入，我国现在的芯片行业人才缺口还是太大。比方说2018年全国本硕博毕业生数量超过800万人，其中在集成电路领域的毕业生就达到了20万，但是能够在本专业继续工作的只有3万，超过8成以上都转行了，如果没有人才，那么研究芯片是无法进行的，人才才是最关键的，说到底其实就是资金的投入。

再来说一说光刻机，我国最牛的光刻机生产商是上海微电子装备公司，它的加工制程是90纳米，虽然只有90纳米，但这已经足够我国基础的国防与工业需要，而且还有一个重大好消息是，上海微电子装备公司有可能在今年交付国产第1台制程28纳米的光刻机。综合来看，我国的光刻机制造工艺与世界先进水平还相差10~15年左右。

核心工业软件

工业软件是智能制造的必需品，比如芯片的设计与生产必须要EDA工业软件， EDA软件水平就代表了一个国家电子产品的设计能力水平。什么是EDA?EDA就是电子设计自动化，在现代高精尖的制造领域，当一个设备复杂到一定程度，就需要以计算机辅助的工业软件来替代人脑计算与设计，没有先进的EDA软件来做产品设计，就算是再先进的机械设备与工艺也无法完成制造。人们常说工业软件三巨头是EDA、CAE与CAD，这些工业软件是在自然科学与技术的基础上构建起来的，它的基础就是物理、数学、工业与计算机技术，想要在这一领域上更上一层楼是需要时间的。

可以看到至少在这些领域，想要在短时间之内弯道超车基本上是不大可能的，但是我们也不能把这些核心技术给神秘化了，到处鼓吹“卡脖子卡脖子”。虽然在这些领域我们的技术水平比不上别人，但是我们都已经在做了，随着技术经验的积累，产品的迭代更新，相信达到世界先进水平不会太久，即将交付的制程工艺28纳米的光刻机就足以证明这个问题。

你们的看法呢？