半导体设备是芯片生产过程中不可或缺的存在，而半导体设备的科技含量极高，一般的国家很难掌握，因此半导体设备几乎被美欧韩日等国家所垄断。

我国作为芯片大国，对半导体设备的需求非常大。但由于我国半导体设备发展较晚、技术积累不够、产业链不够完善，这导致我国半导体设备供应受制于人。

而美方正是利用这一点，对我国半导体设备供应进行打压，这让我国半导体设备发展受阻，可谓是极其邪恶。

比如美方拉拢日荷组成封锁联盟，限制先进光刻机的出售。去年7月份，日方就发布了半导体设备出口管制，把光刻机限制范围缩小至45nm以下。

而荷方于去年9月份限制2000i型及2000i型以后光刻机出口，今年9月份荷方又扩大限制范围，把1970i型、1980i型光刻机纳入半导体设备出口管制目录。

面对封锁联盟的半导体设备出口管制，我国半导体设备产业发展可谓是进入至暗时刻。不过最近我国半导体产业出现了新的突破，一举打破封锁联盟限制。对此，有外媒表示:国产半导体设备转折出现了。

第一个转折:精微电子已经完成7nm先进制程的半导体检测设备的验收和交付

9月下旬，国产半导体厂商精微电子在投资者平台表示:精微电子是国内半导体检测设备领军企业之一，目前精微电子部分主力产品已经完成7nm工艺的验证和交付，并且更先进工艺制程的产品在验收中。

半导体检测设备是半导体设备中科技含量极高的设备之一，这种设备伴随着芯片生产的每一个环节，是芯片生产质量和良品率重要的保障。

正因为半导体检测设备的重要性，很多业内人士表示半导体检测设备的重要性仅次于光刻机。

早前半导体检测设备市场被KLA等国际巨头垄断，但这次精微电子的表态告诉世人，国产半导体检测设备的转折已经出现了，我国半导体检测设备对外依赖度大大降低，在自主化的道路上越走越远。

第二个转折:长江存储已经完成国产半导体设备的替代，并开始稳步发展

也是9月下旬，专业分析机构TechInsights报道称，国内半导体厂商长江存储成功进行了国产半导体设备的替代。

据悉，长江存储已经转向了国产半导体设备供应商，其中有专注于蚀刻设备的中微电子，专注于沉积设备和蚀刻设备的北方纬创，专注于沉积设备的拓荆科技。

长江存储是国内最大的存储芯片制造商，和国内的长鑫存储共同誉为“国产存储芯片双雄”。但由于美光等美企的游说，美方把长江存储和长鑫存储纳入实体清单，这让长江存储和长鑫存储获取半导体设备的渠道大大缩减。

现如今长江存储已经完成国产半导体设备的替代，开始从国产半导体供应商中采购设备，这对于国产半导体设备供应的良性循环起到了积极作用。

第三个转折:国产65nm光刻机已经研制成功，我国拥有了自己的DUV光刻设

也是在9月份，工信部发布了一个半导体设备目录，这份目录出现了两款光刻机，一款是110nm的氟化氪光刻机，这款光刻机工艺比较落后，还不如上海微电子的600系列光刻机。

但另一款氟化氩光刻机就比较厉害了，这款光刻机分辨率≤65nm，照明波长193nm，套刻≤8nm。

从这个参数可知，这款光刻机波长达到193nm，是一款DUV光刻设备。并且套刻≤8nm，这表明这款光刻机理论上可以生产8nm芯片。而就实际工艺来看，这款光刻机可以生产28nm芯片。

虽然这款65nm的氟化氩光刻机的工艺还不能和ASML旧款的1970i型光刻机相提并论，并且这款光刻机和ASML光刻机还有20年的差距。但纵观全球市场，这款65nm的光刻机已经达到世界主流水准。毕竟全球能生产DUV光刻机的国家不多，除了荷兰、日本外，估计就剩下我国了。

不过我国半导体产业发展向来是应用一批、研制一批、储备一批，因此我国不排除有比65nm光刻机更先进的半导体设备。

可以说在光刻机设备领域，我国已经实现一定程度的突破，这个转折让外界没有料到。

写在最后

精微电子已经实现7nm半导体检测设备的验收、交付，并且更为先进的检测设备还在验收中，这表明我国半导体检测设备已经实现转折，打破了KLA的垄断。

而长江存储已经逐渐完成半导体设备的国产替代，这表明国产半导体设备已经能满足国内芯片厂商的供应需求，已经实现了国产半导体设备良性供应循环。

65nm氟化氩光刻机的出现表明我国光刻机工艺已经达到世界主流水准，具有初步打破ASML等光刻机厂商垄断的能力。也因为我国半导体设备的多项成果出现，外媒才表示:国产半导体设备的“转折”出现了。