官宣自主研发的光刻机开始规模推广使用，套刻能够达到8nm水平，主力生产...
官宣自主研发的光刻机开始规模推广使用，套刻能够达到8nm水平，主力生产还是28nm，这样的光刻机应该可以满足大部分的芯片生产需要。知道能够实现突破，想不到来的这么快，这还是公布的，没有公布的那些还不知道先进到什么程度呢，太提振人心了。
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