芯片已经成为这个数字时代的“新石油”，而芯片性能有多快，精度有多高，这就得看芯片制造设备光刻机了！只可惜，全球能生产高端EUV光刻机的厂商只有一家，荷兰的ASML。

其实在美方干涉之前，ASML就不愿意向外透露自己的核心技术，当初中企派技术人员前去学习，结果被一顿嘲讽“给我们图纸也造不出来”；

美方干涉之后，ASML更是在国内批量申请专利进行保护，大搞技术封锁。而当拆解机构完成对麒麟9020的分析之后，ASML更是扬言“中国芯片技术和世界先进水平还差10-15年”。

哈工大让ASML沉默了

然而ASML也万万没想到，哈工大绕过技术封锁，突破了EUV光刻机的一大核心技术。

近期，哈工大官宣一则新闻，搞定了13.5nm极紫外光源。

从技术层面来讲，这是国产EUV光刻机的重大突破。要知道，EUV光刻机有三大核心子系统，分别为物镜系统，双工件台，还有光源系统。这三大子系统堪称物理数学领域的巅峰之作：ASML的光学物镜系统由蔡司提供，双工件台由ASML自主研发，光源系统则采用了美国Cymer的顶尖技术。

目前而言，我国的华卓晶科的双工件台已经达到了EUV标准，中科科仪公司研发出了两大镀膜设备：直线式劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，让物镜的制备精度控制在了0.1nm，虽然还没有达到蔡司的水平，但基本能满足EUV光刻机的需求。光源几乎成了国产EUV光刻机的最后一块拼图。

据悉哈工大的“放电等离子体极紫外光刻光源”不仅绕过了ASML EUV光源技术，实现了13.5nm极紫外光的生成问题，同时还具有运维成本低、技术难度小、能效转换高的优势，完全能满足国产EUV光刻机需求解决了卡脖子问题。

只要国产EUV落地，芯片战就会结束

不过，这一消息出来已经有些时日，光刻机巨头ASML却陷入了沉默，不知道为什么不说话了？是天生不爱说话吗？但针对这一现象，知名避险基金经理人、现任新加坡毕盛资产管理创始人王国辉在接受采访时却表示，大陆芯片巨头中芯国际必然能追上台积电。

其一、中芯国际资金雄厚，有官方背书，投入不是问题；其二、中国未来会有大量半导体相关人才；其三，中国有全球最大的市场，不依赖海外市场就可以实现大规模营收。最后一条，虽然无法获得ASML的光刻机，但只要中国有一家企业成功研发出国产EUV光刻机，芯片战争就会结束，中芯国际等大陆芯片厂商的市值也将会迎来数倍的增长！

如今哈工大能绕过西方技术封锁，实现极紫外光的技术突破，不仅意味国产EUV光刻机突破了又一核心技术，更意味着距离芯片战结束已经越来越近了。

ASML之所以选择沉默，因为他们完全没想到中国的发展速度和科研实力有多强大，面对麒麟9020采用7nm或等效7nm工艺，ASML表示中国芯片技术落后15年，但他忽略了中国芯片产业的联动能力和配合能力，一旦中芯国际进入EUV领域，包括ASML在内的西方国家，数十年来筑起的芯片壁垒将轰然倒塌，中国芯片产业将再也没有任何短板。

中芯国际需要等多久呢？

根据王国辉提供的信息，目前因为美、日、荷三方协议，中芯国际在2026年之前可能无法获得EUV光刻机，但根据知名清华大学博士蔡正元的说法，国产EUV光刻机有望在2028年落地，大概还差3年左右的时间，届时将会是中企与海外芯片厂的“终局之战”！

可见，哈工大这一突破，不仅培养了一批又一批的国之栋梁，还与国家科技发展同频共振，他们的科研人员、未来为国家半导体发展之崛起而努力的莘莘学子，值得我们点赞！