据日经亚洲（Nikkei Asia）9月3日报导，美国处理器大厂英特尔已决定与日本官方研究机构在日本设立先进半导体研发中心，以提振日本半导体设备制造与材料产业。

据介绍，这座新的研发中心将在未来3到5年落成，拟配备极紫外光（EUV）光刻设备。设备制造商与材料商只要缴纳一定的费用，就能使用设备进行测试与试作。这将是日本第一座拥有供厂商共用EUV光刻机的研发中心，也是日本研究机构首度计划导入EUV光刻机。

该研发中心将由隶属于日本经济产业省（经产省）的产业技术综合研究所（AIST）负责营运，而英特尔将提供使用EUV技术制造芯片的专业知识。这座研发中心的总投资额将达数百亿日元。

EUV在制造5nm以下先进芯片上扮演重要角色，不过一台EUV设备动辄售价约1.5亿美元，并非是许多材料商与设备商可单独负担的价格。

而资金不够雄厚的厂商目前只能使用海外研究机构的EUV设备来研发产品，例如比利时微电子研究中心（IMEC）。此外，日本政府与8家民间企业合资的晶圆代工厂Rapidus计划今年12月引进EUV设备，以便制造尖端制程芯片，不过日本研究机构目前尚无这类设备。

随着美中科技竞争日趋激烈，美国早已禁止EUV的对华出口，并加强了对于高端DUV相关技术和产品的出口管制，其中包含设备与材料，不过管制措施也导致厂商从海外研究机构回收数据到日本之际更加耗时。未来日本国内就能使用EUV光刻机，就能减少管制带来的阻碍。

荷兰光刻机大厂ASML是唯一的EUV光刻机供应商，不过生产芯片需要经过超过600道制程，而光刻机只是其中一环，其他相关设备与材料的发展也至关重要。

编辑：芯智讯-浪客剑