近日，中国国产光刻机又传来了好消息，举国欢庆！

有消息称，我国国产光刻机正在测试LDP技术，也就是利用激光诱导放电等离子体技术，这也是颠覆EUV的一种新技术。

在中国芯被美技术封锁后，从芯片技术到芯片制造设备，处处“卡脖”，甚至连中芯国际真金白银花了数亿美元采购的EUV光刻机都无法交付，这倒逼着中国半导体产业发奋自强，自主创新。

当时，ASML公司的高管曾嚣张的表示，就算公开图纸，中国也不可能造的出光刻机。现如今，这不是被“打”脸了吗？我们赢了，就连外国权威媒体都承认，远超预期。而且中国国产EUV发展不再是遥不可及的梦想，或许真有实现的一天。很显然，谁都不敢再低估中国了。

值得一提的是，前面提到的在测试的新系统技术，并不是实验室阶段。这个系统计划2025年Q3季度就要试产，并且预计2026年就会大规模量产，如果真的能够按计划时间发展的话，那么我们很可能在近两年就打破ASML公司在光刻机领域的技术判断，尤其在高级平版印刷技术方面。

大家可能也看出来了，欧美一直引以为傲的EUV光刻机，确实是一座技术大山，挡在中国半导体产业面前，要翻越它，真的是“难于上青天”，这也是为何美西方会如此有恃无恐、蛮横骄纵的核心所在。但问题是，翻不过，还不能绕吗？

正所谓“树挪死，人挪活”，在国产光刻机发展方面，我们并没有按照行业发展方向，没有按照ASML公司的思路，而是走了和别人不一样的路，且一直都在尝试新的技术、新的方法，新的思路。谁说只能利由极紫外光来生产先进芯片的？

中国科技的可怕之处就在于，永不服输，永远尝试。即使我们的技术落后，即使我们被美西方进行了技术封锁，不让我们“上桌”，我们也不会放弃探索和创新。从上世纪发展至今，我国在很多领域都曾遭到过打压和轻视，比如航天航空、卫星导航以及航母等等，但在中国科学家的不断努力下，即使被边缘化，即使被恶意针对，咱们都不会错过任何学习和研究的机会。咽下不甘和屈辱，化悲愤为力量，最终在各个领域均取得了亮眼成绩，现在谁还敢小瞧中国科技？

聚焦光刻机领域，尽管目前咱们确实没有技术优势，也依然没法解决技术“卡脖”的问题，但中国科技企业是不会停止探索和创新的脚步的，只要不认输，只要还在努力，一切就还有希望！期待中国国产光刻机大获全胜的一天。