阅读此文前，诚邀您点击一下“关注”按钮，方便以后持续为您推送此类文章，同时也便于您进行讨论与分享，您的支持是我们坚持创作的动力~
文丨唐唐视野编辑丨唐唐视野导语：俄罗斯一声吼：“EUV光刻机，我们有核心技术！”听得人一愣一愣的，这不一直是阿斯麦和美日韩的天下吗？到底谁能笑到最后，得看点真本事。
在全球科技竞赛中，EUV光刻机被视为未来芯片制造的“圣杯”。中国与俄罗斯，两个非传统光刻机强国，正在这个领域展开激烈竞争。虽然俄罗斯自信满满，声称其技术储备有望领先中国，但业内专家对此表示怀疑。中国在EUV领域的研发虽起步较晚，却已投入了大量资源和人才。而俄罗斯虽然有苏联时代的技术积累，但其目前的研发投入和成果远远落后于全球领先者。两国之间的这场技术竞赛，谁能在未来的芯片制造中占得先机，仍是一个未解之谜。
1. 俄罗斯真的能在EUV光刻机上超越中国？俄罗斯的EUV光刻机技术，听起来像是一个天方夜谭。说起这个，很多人可能会质疑，毕竟俄罗斯的科技成就更多停留在航空航天、军工领域，提起芯片制造，估计大多数人首先想到的还是“拿洗衣机里的芯片拼凑”。但俄罗斯一拍胸脯说：“EUV光刻机，没问题！”这到底是信口开河，还是背后真有点底子？
上世纪70年代，苏联科学家就开始涉足EUV技术，这可不是瞎编。当时，苏联在“多层镜”领域做了不少研究工作，而这种镜子正是EUV光刻机中最核心的技术之一。日本第一张EUV图像就是用苏联的技术做出来的，这事儿ASML的官网上还真有记载。这份技术底蕴可不是一夜之间能造出来的。如今，俄罗斯科学院微结构物理研究所又继续发扬光大，帮荷兰人搞定了关键的多层镜制造技术。俄罗斯人说有技术储备，确实不是空口无凭。
不过，别急着拍手叫好。俄罗斯目前的光刻机制程还停留在350纳米，和国际主流的5纳米差得可不只是一星半点。EUV光刻机可不是什么普通的技术积累能解决的，ASML开发了30年，全球最顶尖的工程师全程参与，中国至今都还在攻坚。俄罗斯突然宣布“我们有技术储备”，就像一位老戏骨突然宣称自己要挑战年轻偶像的演技巅峰，多少有些让人怀疑这是不是在炒作自己。
2. 光刻机：俄罗斯的优势是真实还是假象？俄罗斯在光刻机技术上的优势到底是真实存在，还是自我宣传的“硬核”包装？俄罗斯一说起EUV光刻机，仿佛科技神话附体，但背后的真相究竟如何？一方面，俄罗斯确实有点老底子，苏联时代的技术积累还是有些硬实力的。另一方面，这个“优势”更多像是个烟雾弹，试图掩盖背后缺乏关键技术的现实。
从数据上看，2023年，俄罗斯在半导体领域的研发投入不到50亿美元，甚至不如中国一家企业华为的投入。再看人才储备，中国在光刻机领域的科研人员超过2000人，而俄罗斯连个完整的团队都凑不齐。真要说优势，那只能是靠苏联遗留下来的那些老技术支撑门面。至于能不能转化成真正的EUV光刻机，还得另说。
与中国相比，俄罗斯的光刻机研发更像是在走“捷径”。俄罗斯在Dzen上发文宣称自己不需要开发浸入式DUV光刻机，因为他们已经掌握了EUV的核心技术。问题在于，DUV是全球各大芯片厂必备的技术节点，俄罗斯连350纳米的DUV都没搞定，突然要跳到EUV，难免让人质疑这是不是在吹牛。这就像一位马拉松选手，连热身跑都没跑过，却扬言要直接挑战奥运冠军。
3. 中国在EUV光刻机技术上的努力为何不被看好？中国在EUV光刻机上的努力被泼了一盆冷水，不少人甚至对中国的技术前景表示悲观。为什么？关键在于这个领域的复杂性与技术壁垒。EUV光刻机被誉为“科技皇冠上的明珠”，全球最先进的ASML公司用了30多年，投入了数百亿美元，才勉强站稳脚跟。相比之下，中国刚刚开始，进展自然显得缓慢。
更令人头疼的是，EUV光刻机涉及到超过10万多个零部件，每一个部件都要精确到纳米级。以光源为例，EUV光刻机的光源技术极为复杂，ASML的光源功率已经超过250瓦，而中国目前的技术还在50瓦左右徘徊，差距显而易见。这个问题不解决，光刻机的良品率根本无法保证，更别提商用化。
中国的挑战不仅仅在技术难度上，还在于国际环境的限制。西方国家对中国实施技术封锁，EUV光刻机的核心技术和关键零部件几乎全部掌握在美日欧等国家手中。中国无法通过市场购买，只能靠自主研发。这就好比一场没有参考书的考试，要想获得高分，几乎得靠天才级的发挥。
不过，话说回来，中国真的就没机会了吗？也不尽然。中国在半导体领域的投入每年都在大幅增加，2023年仅在EUV光刻机的研发上就投入了近200亿元人民币。这种力度的投入，放眼全球也是罕见的。而且中国的科研团队正在逐步积累经验，未来可能会在某些关键技术上取得突破，打破当前的僵局。
4. EUV光刻机的未来：俄罗斯能否实现“弯道超车”？俄罗斯扬言要在EUV光刻机领域“弯道超车”，可这到底是脚踏实地的技术突破，还是一次高调的宣传攻势？在光刻机这个全球顶尖科技的赛道上，俄罗斯的底气究竟从何而来？
先看硬件实力。俄罗斯的EUV技术基础源于苏联时代，这份老底子确实有点硬。但别忘了，光有老技术远远不够，EUV光刻机涉及的尖端科技多如牛毛，单单光源一项，ASML就用了十多年时间才将功率从100瓦提升到250瓦。反观俄罗斯的光源技术，连50瓦的量产都没达到。没有强大的光源，EUV光刻机就像一辆没油的跑车，跑得再快也是纸上谈兵。
再看资金和人才。2023年，俄罗斯对EUV光刻机的投入不足30亿美元，远低于中国的200亿元人民币。而在光刻机领域，人才才是最大的资本。俄罗斯的半导体科研团队人数有限，而中国光刻机领域的专家人数已超过2000人，并在不断扩大。这场技术竞赛，俄罗斯单靠“情怀”恐怕难以取胜。
尽管如此，俄罗斯一贯以“出奇制胜”著称，从太空竞赛到人工智能，俄罗斯总是能在关键时刻拿出看家本领。但问题在于，EUV光刻机的研发不像太空竞赛那样可以一锤定音，它需要长时间的技术积累和巨额资金的持续投入。俄罗斯的科技体系能否支撑起这一庞大的工程，令人怀疑。
结语：未来，俄罗斯能否真正实现“弯道超车”还有待观察。眼下，更值得关注的可能是中国在这场技术竞赛中的应对策略，毕竟双方的竞争已进入白热化阶段。这场中俄之间的EUV之争，最后鹿死谁手，还未可知。
那么最后想问：俄罗斯能否真的超越中国实现EUV光刻机的突破？对此你怎么看？
