台积电2nm工艺良品率达到60%,为何内地芯片只能停在7nm工艺?-淡然处世者

淡然处世者 2024-12-09 10:59:29

台湾供应链消息人士透露,台积电2nm芯片良品率超过60%,有望于2025年实现量产,并在2026年用于iPhone 18 Pro机型中。

据悉,该2nm工厂就是台积电位于新竹的宝山工厂,采用了新型的GAA技术,而非之前的FinFET技术。

GAA技术强在哪里呢?

GAA即全环栅晶体管,号称是一种能够延续“摩尔定律”的新兴技术。它可以提升栅极控制能力,减少电子跃迁,最终克服FinFET技术的物理缩放和性能限制。

传统FinFET的沟道仅三面被栅极包围,当晶体管尺寸过于窄小时,就会出现电子跃迁现象,导致芯片漏电率上升,良品率下降,发热等。

而GAA采用全新技术,使得沟道被栅极完全包裹,从而降低电子跃迁率,提升栅极对沟道的控制性能。

总的来说,GAA结构比FinFET结构,具有更好的电子控制能力,更高的有效沟道宽度,可以把晶体管密度做的更大。

根据测试,GAA结构可以为芯片提供更高的性能,也能降低15%到20%的功耗。”

但是第一个使用GAA技术的晶圆代工企业并不是台积电,而是三星电子。

三星电子在2023年量产的3nm工艺就采用了GAA技术,但是因为自身水平有限,并没有争取到苹果、高通、英伟达、AMD这类大客户。反而导致自身的晶圆代工份额下降。

2024年10月,三星被传出大规模裁员的消息,其中晶圆代工业务裁员30%左右,生产线利用率已不足70%。

可见GAA技术不是万能的,还要看自身的综合实力。

众所周知台积电是全球领先的晶圆代企业,不仅市场份额超过了60%,工艺技术也是顶级的,甚至其他晶圆厂加起来也“打不过”这一家。

在3nm时代时,台积电就开始着手研究GAA技术,但是并没有将其应用在3nm工艺上。究其原因一方面是自身GAA技术储备不足,不够成熟;另一方面是因为GAA技术更加复杂,成本更高。

到了2nm时代,只能使用GAA技术,所以台积电放弃了自身在FinFET领域的优势地位,开始进军全新的GAA领域。

除了研发时间更长外,台积电还有一个优势,那就是拥有了最先进的High NA EUV光刻机。

高数值孔径EUV光刻机

2023年ASML的High-NA EUV(高数值孔径极紫外)光刻机实现商用,当时第一个拿到这款光刻机的是英特尔,第二年台积电也购买到了。

这台光刻机,重量高达150吨,也就是150000KG,运输时用到250个货箱,运到intel后,还需要ASML派250名工程师,花费6个月,才能组装并联调到位。

这种光刻机,与之前的EUV光刻机,最大的参数区别就是数值孔径更大,达到了0.55NA,而之前的EUV光刻机数值孔径为0.33NA。

数值孔径越大,收集和聚焦光就越多,光线功率越高,分辨率也越高。所以,最新的高数值孔径EUV光刻机分辨率达到了8nm。

可以制造出2nm、1nm以下芯片。而ASML表示,这种光刻机是为AI芯片量身打造。

众所周知,AI号称第四次工业革命,是各国竞争的主要阵地,而AI核心底座就是AI芯片。

所以在该领域,竞争一直十分激烈,英伟达被限制向中国企业提供先进的AI芯片,ASML也被限制向中国晶圆代工厂提供先进的光刻机。

而就是在半导体设备上的限制,让中国芯片停在了7nm工艺。

从全球晶圆制造格局来看,能够制造出7nm以下芯片的企业并不多,台积电、三星、英特尔实力不俗,有拥有大量的先进设备,都率先实现了7nm以下制造工艺。

而其他的芯片制造企业,则因为各种原因止步于7nm。联电、格芯主要是被限制在了制造技术方面。而内地的中芯国际则是因为缺少核心制造设备。

早在2018年,中芯国际就预订了一台EUV光刻机,但因为《瓦森纳条约》的限制至今没有收到货。

2022年、2023年,美日荷先后出台半导体设备限制,对先进的EUV光刻机、浸润式DUV光刻机,以及其他先进半导体设备进行了出口管制。

尽管三方均表示不针对任何国家和地区,但是明眼人一看就知道是怎么回事。

尽管中芯国际联席CEO梁孟松是芯片制造领域的高手,有着丰富的制造经验。在短短3年时间带领中芯国际实现了28nm、14nm、10nm、n+1、n+2等工艺的量产。

但是到了7nm以下制造工艺,明显感觉到了压力巨大,就是因为缺少先进的光刻机。

虽然浸润式DUV光刻机可以制造7nm、5nm芯片,但是明显对制造、封装工艺要求更高。

所以,未来中国芯片制造企业想要实现5nm、3nm芯片的量产,就必须要解决EUV光刻机的难题。

但是EUV光刻机制造难度很大,尤其是在极紫外光源、光学镜头方面,没有长时间的技术积累和科研攻关是很难解决的。这是我们不得不面对的现实。

目前国内解决的方案,一方面是在半导体设备上持续的研发,大规模资金的投入;另一方面是采用新技术做替代,用性能等效的方法去实现国产替代。

尽管苹果计划在2026年的iPhone 18 Pro机型上,专门采用台积电2nm工艺制造的芯片,要比咱们领先多年。

但是,只要我们不放弃,咬定自主研发不放松,消费者积极采用国产芯片,同时大量引进科研人才,用好科研人才,就一定能够追上来。

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