同样遭受制裁的俄罗斯，其最先进的晶圆厂使用 65nm 制造技术生产芯片，比我们还惨。为此俄罗斯政府推出了一项国家计划，到 2030 年开发该国自己的 28nm 级制造技术。面对设备和材料的壁垒，俄罗斯科学院俄罗斯应用物理研究所打算到 2028 年生产出具有 7nm 能力的光刻扫描仪 。

俄罗斯2002年时就开展了一个名为“基于微聚焦X射线管列阵的软X射线源研制，适用于10nm无掩膜光刻机”的项目研究，很有实力。俄罗斯莫斯科电子技术学院（MIET）将研发基于同步辐射加速器和等离子体源的X射线光刻机，使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间。由于波长够短，可以做到不需要光掩模版，如果俄罗斯成功了，那真是既省钱又省心。俄罗斯如何搞定X射线工艺以及效率的提升问题，全世界都拭目以待。

网友:不用掩膜版，就是直写式光刻机，包括电子束光刻机，这种光刻机难度很低，可以很容易达到高精度水平，但是效率非常低下！！！成本就类似芯片初次流片，高达几千万一片的成本。网友:这种无掩膜的技术，目前有技术瓶颈。就类似于别人是在镂空的纸上用颜料涂色，而你是直接手写。除非俄罗斯能突破技术瓶颈，那就是另辟蹊径了。

网友:俄罗斯如果与中国一起合作，这个进度就非常快，因为只要俄把主要东西弄出来，其它配件中国做，那就非常非常快了，对双方都有利。网友:难，俄罗斯半导体技术承接的是苏联留下的，但问题是点歪的科技树，准确来说是苏联留下的电子管技术。