半导体行业已经成为当今世界各国主要追求发展的一大行业，光刻机作为世界半导体领域的顶尖工艺，更是受到大众的追捧，因此这些年来，世界各国的专业学者不断寻求研制光刻机，试图在半导体领域寻找发展的先机。

而当前纵观世界各国企业，荷兰ASML所量产的EUV光刻机，可以看出来是全球最顶尖的技术，原本世界各国可以凭借着荷兰所提供的Euv光刻机发展本国半导体行业，但奈何中国却因为受到美国的限制，无法获取EUV光刻机。如今马上到了2023年，中国在光刻机发展领域又有哪些变化呢？

这些年来，各国为了发展半导体行业，在光刻机研发中投入的资金高达上亿，但大多数国家都收效甚微，毕竟光刻机的研发本身就是一项艰巨的工作，光刻机作为芯片生产必要工具，也是未来智能家居和互联网时代的无法跳跃的一大环节。

而现在中国的境遇却给其他国家敲响了警钟，中国因为没有掌握高精尖芯片研发能力，导致中国在此领域不断受他国政策限制，中国企业在此期间更是受到了严重的利润损失。

高端芯片领域发展停摆，让中国在刻机研发领域被迫停滞发展，而我们能够改变这种局面的方法，就是走上自主研发道路。

可光刻机这种东西说研发又不容易，毕竟当前光刻机基本就两种，分别是DUV光刻机和EUV光刻机，而前者更多体现的是中低端芯片的研发制造，像是东芝佳能以及我们上述所提到的荷兰的ASML，都有这样的生产能力，但是用于生产高精尖芯片的医用微光刻机就只掌握在ASML手中。

EUV光刻机除了需要大量技术专利作为其发展基础，更重要的是它的零件也多达上万个，这就需要全球几十个国家为其提供，这条极其繁琐的生产链，让各个不具备基础工业生产工业链的国家被迫止步。

而我们知道如果我们不能走上自主研发道路，被卡脖子的境遇就无法改变，而我国现在的光刻机研发又走到了哪一步呢？

过完三年不断被限制、卡脖子的境遇告诉我们，光刻机自主研发难度确实高，但是却是我们必须要走上的一条路。而在这条发展道路上，必须要投入大笔资金，中国内地有很多研发出众的企业，不过这其中表现最强的还是上海微电子，上海微电子将光刻机分为几大板块，他们打算依照这些板块的不同特性逐一攻克，如今上海微电子在此领域已经取得了可观的成绩，而在28nm制成的工刻机工艺上，他们已经拿下了一部分成就，这也让ASML表示对他们刮目相望。

除此外ASML还提到，只要他们再给上海微电子5年的时间，光刻机行业的核心刻机就不再是只掌握在他们手中的秘密，事实上，现在除了一些国内企业仍坚守传统路线，也有一些企业开启了新发展道路。

他们试图通过不同方式来实现那些只有依靠光刻机才能完成的操作，就拿通富微电举例，他们就打算绕过光刻机的方式进而实现5nm制程工艺芯片量产，不过芯片整体体系还需要继续缩小，至于南大广电也直接聚焦了光刻胶领域，这也实现了arf光刻胶的自主研发，这都帮助我们摆脱了对那些外国企业的依赖。

现在不仅是我国企业正着重从绕过光刻机的方式来解决刻机发展的难题，还有一些国外企业也打算利用同种方式摆脱对ASML生产的UV光刻机的高度依赖。

总体来看，EUV光刻机除了是困扰中国各大企业的难题，也是让各个国家难以攻克的技术难点，因此，绕过光刻机来生产芯片就成了各个国家发展的主流方式，比如现在苹果公司就使用芯片对接方式完成了M1Pro芯片的生产，而我国也则趁机选中了聚焦光子芯片和芯粒技术，利用这两项技术来摆脱困境，对于传统光刻机的过度依赖，而我国现在聚焦的新力技术就是使用多个高精尖芯片堆叠而成的，它能发展成性能更为优秀的芯片。

此前多年中国在高精尖芯片领域不断受到他国打压与胁迫，而如今中国也终于在这一领域做到了突破自我，光刻机生产将不再是行业秘密。