ASML是全球光刻机制造技术最先进的厂商，其研发制造的光刻机，几乎占领了中高端市场。

据悉，ASML的光刻机技术之所以先进，一方面是因为采用大量的美技术，像曝光系统等，另一方面是台积电、三星等进行的大量数据反馈，促使ASML优化了技术。

也正是因为如此，ASML研发制造EUV光刻机后，该设备就不能自由出货，国内厂商早就全款订购的一台，至今都没有到账。

芯片等规则被修改后，ASML的DUV光刻机也不能自由出货，尤其是在美生产制造的DUV光刻机等设备，而EUV光刻机也不能出货到外企中国分厂。

结果进入2022年后，情况就发生了明显的变化。

过去，ASML一直都想自由出货，但总是发声呼吁，并没有什么实质性的动作。如今，ASML却开始加速向国内厂商出货DUV光刻机等设备。

数据显示，ASML今年第一季度就向国内厂商出货了23台DUV光刻机，如此多的出货量，远超之前的出货速度。

毕竟在过去很长时间内，才向国内出货了50余台DUV光刻机。

另外，ASML还正式对外透露，全新一代High NA EUV光刻机的原型机将会在2023年面世，最快将在2024年交付厂商测试。

可以说，ASML如此表态，就相当于透露EUV光刻机有望在2024年自由出货。

毕竟，全新一代High NA EUV光刻机出货后，EUV光刻机就不再是最先进的设备，自然就不受瓦森纳协议限制了。

最主要的是，ASML还正式确认将会扩大国内研发中心的规模，计划新增200名研发人员，并宣布将会在国内建设维修中心。

据了解，这些举动都可以看作是为EUV光刻机自由出货做准备的。

面对这样的情况，就有外媒表示ASML开始有点“出格”了，不仅加速出货DUV光刻机等设备，还变相透露了EUV光刻机有望自由出货的时间。

其实，ASML这么做，也是有原因的，毕竟，ASML就是一个光刻机制造工厂，以销售光刻机为主要收入来源。

芯片等规则被多次修改后，ASML在出货方面受到了很大的限制，已经失去了很大的市场，而美本土等市场又不景气，ASML只能将更多注意力放在其它市场上。

数据显示，国内市场已经超于美国成为ASML第三大市场，占比超过14%，这还是在ASML不能自由出货的情况，一旦ASML实现自由出货，结果可想而知。

另外，由于ASML不能自由出货，已经促使很多厂商研发新技术，降低对ASML光刻机的依赖。

例如，铠侠等推出了NIL工艺，台积电等推出了先进的封装工艺，苹果、华为等开始重视堆叠技术芯片。

可以说，上述这些技术都大大降低了对EUV光刻机的依赖，NIL工艺在没有EUV光刻机的情况下，可将芯片缩小至5nm。

而先进封装技术在不改变制程的情况下，可提升40%的性能，堆叠技术的芯片，更是可以将芯片多核性能翻倍提升。

最主要的是，国产光刻机技术进步很快，像曝光系统、浸润系统等都已经完成，消息称，国产先进光刻机已经开始进行试验阶段，相信不久就会到来。

在这样的情况下，ASML不得不加速出货DUV光刻机，还要加速实现EUV光刻机自由出货，因为这些新技术和新设备等随时都可能替代ASML，导致其损失更大的市场。

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