日本半导体产业迎来重大里程碑，本土半导体制造新秀Rapidus公司宣布，其从荷兰ASML公司购买的极紫外（EUV）光刻设备已开始在北海道的"IIM-1"芯片制造厂进行安装。这标志着日本在追求先进芯片制造技术的道路上迈出了关键一步，预示着未来可能的2nm芯片生产能力的提升。

EUV光刻系统是半导体制造中的核心设备，其在生产过程中扮演着刻画芯片上微小电路的关键角色。ASML生产的这套EUV系统以其高精度和超精细的电路图案形成能力而闻名，对于制造更先进、性能更强的芯片至关重要。由于系统的庞大规模，其安装过程需要精细的规划和操作，以确保设备的完整性以及后续的正常运行。

  这批EUV光刻系统的首批发运已经于12月14日抵达日本，设备的安装预计将在本月底完成。整个安装过程将分为四个阶段，以应对设备的庞大体积和重量，确保在安装过程中对设备的保护。EUV光刻机的安装不仅是技术层面的挑战，也是对Rapidus公司及其合作伙伴在物流、工程和操作技能上的考验。