前言

众所周知，高端光刻机是芯片制造当中光刻环节中最为重要的核心设备，中国因为没有这一核心设备，因此只能够从国外采购，但是中企在收购光刻机时却受到美国的钳制，之前中芯国际从荷兰光刻机巨头ASML公司手中斥巨资77亿购买的DUV光刻机，技术并不如EUV光刻机先进，但哪怕如此，美国议员依然要求升级制裁。

光刻机制造工艺的发展

光刻机的采购对于中企而言是一件难事，但少有人知的是，当年ASML之所以能够击败日本，成为光刻机中的霸主是因为一个台积电工程师的缘故，而这一个台机电工程师名字叫做林本坚，是一个中国人。

在此之前，光刻机的话语权基本上都是被美国以及日本所主导，美国仙童半导体在上世纪60年代初就发明了掩膜版曝光刻蚀技术，并且一直沿用至今，并且仙童半导体的光刻工艺以及生产线还被 IBM所选中用于生产制造大型电脑，美国以及日本等多家厂商的光刻技术以及集成电路产业的发展也得以进一步推动。

日本电气公司NEC是在1963年的时候，获得美国仙童半导体的技术授权，之后被日本政府要求，NEC将相关技术与日本其他厂商共享，日本三菱以及京都电器还有尼康等等这些企业也因此而加入了半导体产业，日本半导体行业也从这一时刻开始突飞猛进。

发展到80年代的时候，光刻机GCA和日本尼康公司齐头并进，在市场的占有率各占30%，而那个时候的ASML才刚刚进军这一个行业。然而，半导体市场的蓬勃发展在1986年的时候触礁。当时美国的光刻机企业都遭受重击，面临着或是破产，或是被收购的状况，美国担心日本企业会借此将全球光刻机市场掌控，因此组建了联盟，对其他光刻机企业进行扶持。

荷兰ASML就被美国政府所看重，在美国的扶持之下，ASML增长快速。但对于光刻机企业而言，最为重要的始终还是工艺制程水平的提高，这才是企业能否长久发展，能否兴盛起来的重要因素。

光刻机工艺制程技术的提升，在很长一段时间里面主要依托于通过对所使用光源的改进来降低光的波长，像本世纪初光刻机工艺制程开始使用193nm波长的DUV激光，但如何才能超越193nm成为了各大光刻机企业巨头所面临的难题。

虽然有多个方案被提出，但是却没有在这一方面有所突破。作为光刻机霸主之一，日本尼康曾经打算选用0.004nm，但是这一个技术对于当时的水平而言，过于超前有很大的难度。

林本坚让ASML取得重大突破

最终让ASML技术有了突破的是来自中国的林本坚。林本坚之前在IBM干了22年，主要负责提高成像技术，之后于2001年加入台积电，在林本坚加入之前，台积电已经是正式入股ASML。

林本坚在没有加入台积电之前，就已经有浸润式光刻技术的概念，但当时林本坚的这一个概念并没有获得采纳，反倒是被当时IBM的同事所排挤。

而在加入台积电之后，林本坚就开始对浸润式光刻技术进一步的功课研究，提出了用水来替代空气，从而缩短波长的方案，并且这一个方案在被提出之后也得到了ASML采纳，而且动作迅速，仅仅一年的时间就将样机开发了出来。

台积电也因此成为了第一家通过浸润式产品厂量产的生产公司，凭借着这一个优势，很快成为了芯片制造领域中的巨头。

因为在关键技术这一方面获得了重大的突破，ASML在市场上所占领的份额不断的飙升，再加上当时日本尼康虽然是推出了157nm产品样机，但是却没有得到厂家的认可，ASML也在跟尼康以及佳能的竞争当中脱颖而出。

尤其之后又将EUV光刻机技术研发的出来，ASML在市场上的地位更加的稳固，现在ASML在光刻技术上是数一数二的大型企业，几乎所有芯片制造公司都跟这一公司合作，毫不夸张的说，ASML在全球市场一家独大。

结语

林本坚这一个中国人帮助了ASML的技术获得了重大突破，奠基了ASML在市场上的地位，并且营业收入节节攀升，2020年的营业收入就高达1100亿人民币之多，但却不愿意出售EUV光刻机给中国大陆，使ASML每年在中国赚走大量的钱，实在令人唏嘘感慨。