据韩国一则消息传闻称，苹果正在为未来的iPhone相机测试一种新的防反射光学涂层技术，这可能会通过减少镜头光晕和幽灵影像等伪影来提高照片质量。

韩国Naver博客上的”yeux1122″ 援引了苹果供应链内的公司消息源称，苹果正在考虑引入新的原子层沉积（ALD）设备到iPhone相机镜头制造过程中。

ALD涉及将材料一层一层地沉积到基底上，从而可以极其精确地控制厚度和组分。其使用可以让制造商将非常薄的材料层应用到半导体设备上，包括相机组件。

在相机镜头方面，ALD可用于涂抹防反射涂层，有助于减少在明亮光源（如太阳）直射镜头时可能出现的光线和光环等摄影伪影。

ALD还可以减少幽灵影像，这是一种图像失真类型，弱的、次要的图像出现在照片中，通常出现在明亮光源的对面。这种情况发生在光线在镜头元件和相机传感器的表面之间反射回反射的过程中。

此外，经过ALD处理的材料可以保护相机镜头系统免受环境损害，同时不会影响传感器高效捕捉光线的能力。

Naver博客声称这种制造过程将应用于苹果”下一代”iPhone系列中的”Pro型号”，这似乎是指iPhone 16系列中一个或两个高端型号。当然，考虑到传闻的时机，结合目前这个时间点，不应排除这一技术可能是为明年的iPhone 17 Pro而准备的。

预计即将推出的iPhone 16 Pro将包括具有多达5倍光学变焦的四棱台镜头功能 – 这一功能目前仅在苹果智能手机系列中的iPhone 15 Pro Max上独有。苹果通常会在9月中旬左右推出新一代iPhone。