2024年，一个美国网友在Quora上抛出一句让人摸不着头脑的问题：“没有美国的允许，中国咋敢私自研发DUV光刻板？”DUV光刻板，深紫外线光刻技术，芯片制造的“刻字机”，用193纳米的光源刻画电路，技术成熟，成本低廉，是全球芯片量产的支柱。

可美国网友这话里透出的意思，却好像中国连摸这技术都得先经过他们点头似的。几十年来，美国没少在科技上给中国使绊子，中国硬是把DUV光刻机从零做到能用，中国这条自立之路，到底藏着多少不为人知的故事？

2024年，有个美国网友跑到Quora上发了个问题，原文差不多是：“没有美国的允许，中国咋敢私自研发DUV光刻板？”言下之意，好像中国连搞点科技项目都得先去美国那儿递个申请，盖个章才行似的。

这种语气摆明了透着一股莫名其妙的优越感，仿佛全世界都得围着美国的规矩转。可事实是，科技发展这事儿，谁也没规定非得经过谁的同意，中国在这条路上走得稳稳当当，完全没必要看谁的脸色。

美国的科技遏制对中国来说，早就不是什么新鲜事儿，尤其是芯片领域，这事儿得从好几十年前说起。那时候，西方国家在芯片技术上确实遥遥领先，美国、日本、荷兰这些国家，把高端芯片制造的核心设备——光刻机——攥得死死的。

光刻机这东西，简单说就是芯片生产的“大脑”，没有它，芯片就是空谈。美国的策略特别直接，他们不光自己锁住技术不卖给中国，还拉着其他国家一起玩“封锁游戏”。

比如，日本有尼康和佳能，荷兰有ASML，这些都是光刻机领域的顶尖玩家，可在美国一声令下，他们的设备出口全都得听指挥。

2019年，美国正式把华为列入实体清单，顺带着把光刻机相关的技术出口也卡得严严实实。ASML本来跟中国有订单在谈，一台DUV光刻机都快装船了，结果美国一插手，交易直接黄了。

日本和荷兰这些公司虽然技术牛，但面对美国的压力，也只能硬着头皮执行禁令，没人敢冒着得罪美国的风险偷偷卖设备。

这波操作下来，中国算是彻底被“卡住了脖子”。芯片制造需要光刻机，光刻机买不到，生产线就得停摆，当时国内不少企业只能干瞪眼。

2010年代初，中国芯片进口额一年就超过2000亿美元，比石油还高，可见依赖有多严重。但这事儿也像一记警钟，敲醒了中国上下。靠别人送技术，那是靠不住的，指望西方松口更是天方夜谭。

从那时候起，国家开始把资源往自主研发上倾斜。2014年，国家集成电路产业投资基金成立，第一期就募了1387亿元，专门砸向芯片产业链。科研院所、企业全都动起来，光刻机的研发成了重中之重。

上海微电子装备公司（SMEE）扛起了国产光刻机的大旗，从基础光学系统到精密机械，步步推进。

到了2020年，国产DUV光刻机的原型机已经能跑起来了，虽然跟ASML的顶尖货还有差距，但起码迈出了关键一步。几年下来，供应链、技术链一点点补齐，DUV光刻机的突破成了自力更生的最好证明。

要说DUV光刻机是个啥，得从芯片制造的过程讲起。这玩意儿本质上是台高精度的“刻字机”，专门用来把电路图案刻到硅片上。它用的是193纳米的深紫外线光源，这种光通过一整套复杂的光学系统，把设计好的芯片蓝图投射到涂了光刻胶的硅片上。

光刻胶被光照过的地方会发生化学反应，留下图案痕迹，再经过蚀刻、沉积等步骤，芯片的线路就成型了。

193纳米这个波长听着挺玄乎，其实是氩氟激光器发出来的深紫外线，比更先进的EUV光刻机（用13.5纳米极紫外线）粗糙点，但好处是技术成熟，设备造起来没那么费劲。

DUV光刻机特别适合生产7纳米到28纳米的芯片，这些芯片不算最尖端，可却是电子产品里的“主力军”，像智能手机、汽车电子、服务器，哪样都离不开。

全球范围内，能造光刻机的国家真不多。荷兰的ASML是老大，市场份额一度占到80%以上，他们的DUV光刻机全球畅销，连美国自己的芯片厂都得排队买。日本的尼康和佳能也有份儿，虽然份额不如ASML，但技术底子不差。

中国这边，上海微电子是主力军，2002年公司刚成立时，只能造90纳米级别的光刻机，离DUV还差得远。可这些年进步飞快，到2023年，国产DUV光刻机已经能做到28纳米制程，离完全自主生产只差临门一脚。

台积电的分析师2024年公开提到，中国大陆在DUV光刻机上的技术瓶颈基本扫清，设备稳定性、良品率都在稳步提升。这不是空话，背后是几十年的技术积累。光刻机的核心部件，像光源系统、镜头组、工件台，每一块都得从零开始攻关。

上海微电子跟中科院光电所合作，花了十几年时间，才把193纳米光源的国产化搞定。相比之下，美国自己并不直接造光刻机，他们更依赖ASML的供货，眼看着中国在这块迎头赶上，难免有点坐不住。

DUV光刻机这东西，说白了就是量产芯片的“工作马”，中国一旦彻底掌握，全球芯片格局就得重新算账。

中国科技的崛起不是一朝一夕就能完成的，回头看上世纪，那时候的情况确实不容乐观。20世纪50年代，新中国刚成立，工业基础几乎是零起点，技术储备更是稀薄。别说造芯片了，连基本的工业设备都得靠从苏联进口。

到了60年代，虽然有了些进步，但跟西方比，差距还是天上地下。芯片这东西，当时对中国来说完全是“洋玩意儿”，全靠从美国、日本这些国家买成品。70年代末改革开放后，情况才开始慢慢改观，但技术依赖的问题依然严重。

1980年代，中国开始意识到半导体的重要性，可那时候国内连一台像样的光刻机都没有，芯片制造完全是空白。西方国家趁着技术优势，把高端设备和高精尖技术牢牢锁在手里，中国想买都买不到，只能从低端做起。

这种落后局面一直持续到90年代，直到国家下决心要改变。1990年，国家启动了“908工程”，专门针对集成电路产业，投入资金开始建厂、搞研发。虽然起步艰难，但总算迈出了第一步。

2000年以后，“863计划”又加了一把火，把光刻机列为重点攻关项目。上海微电子装备公司那时候已经成立，开始从最基础的光刻机型号摸索。

2002年，他们造出了第一台90纳米的光刻机，虽然跟国际主流比还差得远，但好歹有了自己的设备。接下来的20年，研发脚步没停过。

2010年代，国家集成电路产业投资基金（大基金）成立，第一期就砸了1387亿元，专门扶持芯片产业链上下游。从材料到设备，再到制造工艺，每一块都在补课。到了2020年，国产DUV光刻机的原型机正式亮相，能做到28纳米制程。

反过来看美国，他们在尖端技术上确实还有领先的地方，比如EUV光刻机的研发和应用，可他们更习惯用霸权手段压人。2019年对华为的制裁，2020年对ASML的出口限制，都是这种套路。面对中国一步步追上来，他们的招数似乎越来越不管用了。

ASML的DUV光刻机卖不出去，荷兰的损失就得自己扛，美国的半导体企业也少不了跟着吃亏。

2021年，全球芯片短缺闹得沸沸扬扬，美国自己都得求着台积电、三星加班加点生产，连汽车厂都停产好几个月。反过来，中国这边没闲着，光刻机被卡住后，国产替代的步伐反而更快了。

2024年5月，塔斯社放出一条重磅消息：俄罗斯的第一台光刻机已经造出来了，正在紧锣密鼓地测试中。这事儿可不是随便说说，俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）亲自站出来确认，这台设备能干啥？它能生产350纳米工艺的芯片。

自从2014年克里米亚事件后，美国带头拉着盟友对俄罗斯实施制裁，高科技设备的进口渠道被掐得死死的，尤其是荷兰ASML这种光刻机巨头，直接断了供。

350纳米工艺听起来不算先进，毕竟现在全球芯片早就奔着7纳米、5纳米去了。可对俄罗斯来说，这台光刻机的意义不在于跟谁比尖端，而在于迈出了自主的第一步。这种工艺能造的芯片，用在军工设备、工业控制系统上完全够使，比如雷达、通信基站这些领域。

美国的霸道做法，慢慢让其他国家看透了它的套路。加拿大一家媒体就刊文讽刺，美国的制裁要是再细化下去，是不是连工厂的地皮、水泥，甚至工人的空气都要管。

这种夸张的说法，点出了美国政策的荒唐。欧洲国家也开始嘀咕，荷兰政府就曾公开抱怨，美国的出口管制让他们左右为难。

日本企业同样不爽，尼康的高管私下说过，美国的压力让他们丢了不少订单。其他国家看着中国顶住压力往前走，也多了几分摆脱依赖的底气，美国的霸权招数，渐渐成了全球眼里的笑话。

参考资料：[1]程小梅,尹春梅.专利视角看光刻机技术应用[J].中国科技信息,2024(19):42-44