面对中国在半导体领域的突然崛起，美国并不想单打独斗，而是拉上了日韩欧等全球盟友组成一条完整的半导体封锁链，企图将我们彻底孤立，从而拖慢我们半导体领域发展速度。由于美国手握大量相关技术和专利，台积电、ASML等也不得不听命于美国的指挥，尤其是ASML作为美国的“干儿子”，此前一直对白宫的命令“言听计从”。

要知道，如果没有美国的大力扶持就没有ASML今天在EUV光刻机领域的垄断地位。上世纪90年代，是日本人先提出了极紫外光EUV作为下一代光刻机技术，但是搞了10来年依然一无所获。后来美国为了在半导体领域超越日本，组建了EUV LLC联盟，笼络了世界上众多头部半导体企业一起研发EUV光刻机，而此时ASML作为一家无人问津的小公司，也挤进了联盟中。

后来ASML在EUV领域获得了一定突破，美国政府豪掷百亿欧元投资EUV LLC，并且拿到了大量专利，继续支持ASML研发EUV光刻机。美国政府和ASML这次显然赌对了，才有了如今ASML一家独大并且受到美国管制的局面。

ASML加速出货

然而尴尬的是，ASML最近越来越不听话了，甚至直接跟美国唱起了反调。比如ASML的总裁温宁克曾炮轰美国“不应该对中国禁售，因为他们拥有14亿人口，早晚会研发出光刻机，禁售只会削弱荷兰的实力”。近日温宁克直接唱起了反调：“我们要不顾一切出售光刻机，因为对中国的封锁只会让西方受伤”。

随后ASML开始向中国大陆加速出货，今年Q1、Q2、Q3中国大陆销售额占比分别为8%、24%、46%，今年前三个季度ASML对大陆销售额已经突破了400亿，目前ASML中国区员工已经突破了1600人，累计向大陆卖了1400多台光刻机，而且这一数据依然在快速增长中。

如此疯狂的大规模出货，如此一反常态的高调表态，ASML到底在害怕什么？

首先是来自老对手日本半导体的威胁，目前尼康和佳能显然是来势汹汹，自从上世纪90年代末期到现在，佳能在NIL纳米压印工艺方面苦苦研发了20多年，终于把该工艺憋到了5nm制程，并且已经在日本存储芯片上采用了。佳能的下个目标就要把NIL工艺上探到2nm制程，一旦目标实现，ASML的EUV工艺恐怕优势将不复存在了。

中国迎来重大突破

中国在光刻机领域最近也迎来频频突破，最近清华大学团队在美国《自然》（Nature）杂志上发表一篇名为“稳态微聚束原理的实验演示”的文章，引发了业界轰动。该文章称可以用一台大型的SSMB-EUV稳态微聚束光源通过分光给数十台甚至上百台光刻机使用，也就是说它可以有望作为EUV光源使用，一旦落地将彻底突破西方在核心领域上的封锁。

事实上，华为Mate60系列上采用的麒麟9000S芯片，并没有用到EUV光刻机，也制造出了旗舰级芯片，虽然峰值性能依然不如苹果和高通芯片，但是日常使用流畅度相差无几。接下来华为将发布麒麟10系芯片，网传3D堆叠工艺将会让其峰值性能达到目前顶级水准。这意味着接下来我们对ASML光刻机依赖度越来越低，如果ASML再不加速出货，未来将彻底没有机会了！