美国、日本、荷兰在1月底达成了光刻机系统的限制协议，三方重新调整光刻机出货规则，以及进行一系列的限制等等。荷兰以及日本都对协议表态了，荷兰预计在今年夏天正式实施管制措施，日本也透露了协议相关内容。

在这之后，ASML紧急表态，强调了限制范围，并不包括所有的成熟芯片制造设备。

芯片制造需要用上光刻机，纵观全球光刻机市场，一直是荷兰ASML公司一家独大。日本的尼康，佳能光刻机厂商也有不弱的实力，占据中低端光刻机主要市场份额。

为了遏制竞争对手生产高端芯片，美国三番两次调整光刻机出货规则，又联合日本，荷兰达成协议。

根据ASML在1月底发布的公告称，已知悉三方达成了协议，或涉及光刻系统和其它设备的限制，协议需要时间落地，不会影响2023年的营收。到现在，荷兰、日本、ASML都传来了协议相关的消息。

荷兰方面在3月8日表示，已决定加强对中国供应芯片制造设备的限制，出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括浸润式光刻系统。荷兰还强调协议会在今年夏天实施。

日本方面透露了协议的细节，包括不能向大陆已出售的设备进行维护。这相当于切断了售后服务，把光刻机当成了“一次性”用品。

荷兰已经正式“站队”，而且从荷兰的表态来看或影响客户的下单意愿。这不是ASML希望看见的，于是身为局内人的ASML无法保持沉默了。

3月9日ASML紧急表态，称：“新的出口管制不包括所有的浸润式光刻系统，只是涉及所谓‘最先进’的浸润式光刻系统。”另外ASML强调：“先进程度较低的浸润式光刻系统已经能很好满足成熟制程为主的客户需求。”

在外界看来，美日荷三方会全面限制DUV光刻机出货，不允许此类深紫外光刻系统自由销售。但其实DUV光刻机也是有制程区别的，按照光源来划分可归纳为KrF、ArF、ArFi。

其中ArFi（浸润式光刻机）是制程最高的一种，但又分为多种型号的设备，制程从低到高分别为TWINSCAN NXT:1980Di，TWINSCAN NXT:2000i ，TWINSCAN NXT:2050i。

在ASML的声明中，提及了NXT：2000i及后续浸润式光刻系统将被管制出口。也就是说，在整个的浸润式光刻机制程中，只有NXT:1980Di能顺利对外供货。

根据ASML 的官网显示，NXT:1980Di可应用的制程小于等于38nm。别看只是38nm，但如果进行多重曝光的话，是可以生产28nm，14nm等芯片产品的。甚至理论上有望达到7nm，只不过有限的分辨率会导致芯片良率的下降，同时曝光次数越多，成本越大，难度越高。

ASML的紧急表态中为我们告知了不能出货的范围，并重点提及制程较低的光刻机能满足成熟芯片客户需求。在中国大陆市场，有大批量采购ASML光刻机的厂商不外乎中芯国际。

目前中芯国际有四座在建的12英寸晶圆工厂，都需要ASML的浸润式光刻机。如果美日荷三方协议开始实施，中芯国际能买到的浸润式光刻机设备估计只有NXT:1980Di这一种型号了。

不过这对中芯国际似乎不会造成影响，中芯国际在得知荷兰预计夏季实施规则的消息后，也正式发声了。中芯国际工作人员对外表示：“公司目前生产运营正常，目前并未收到相关通知。”

由此可见，中芯国际仍处于正常的经营状况，至于后续可能实施的光刻系统新规，仅凭NXT:1980Di同样能不受影响维持生产线运转。一方面中芯国际目前最高的芯片量产工艺为14nm，这款NXT:1980Di同样能满足14nm芯片生产。

另一方面，ASML今年内的营收不受影响，说明还有时间加紧设备出货，把中芯国际未来所需的设备尽全力满足。

荷兰、日本、ASML、中芯国际各自传来消息，针对协议内容告知实施计划和限制范围。当然，在协议还未正式实施之前，是否会存在变数尚未可知。

半导体产业链不断出现反对规则的声音，如果能阻碍协议落地自然是最好。

反之，我们也应该意识到一昧指望美国能及时回头是不现实的，过往的案例告诉我们，核心技术得靠自己研发，期待国产光刻机有朝一日能实现破局，真正摆脱规则束缚。

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