光刻机在过去四年里被送上了“神坛”，无论是国内还是国外都将光刻机的突破放在了半导体研发领域的最高优先级，之所以把光刻机捧得这么高，根本原因是在于，光刻机的制造十分复杂，供应链也极为冗长，所以突破难度在众多的芯片生产设备中也是最高的。

这也是ASML公司敢叫嚣说，哪怕是给我们图纸我们也造不出光刻机的根本原因。而造不出光刻机就意味着我国的芯片事业发展将被遏制，就意味着我们在半导体领域一直要甚至于美西方。

但是，伴随着8月底，华为Mate 60系列的发布，让全世界都看到了，我国哪怕没有ASML的EUV光刻机也可以制造出高精度的麒麟9000S芯片，这也是让美国极为好奇的一点，哪怕是对麒麟9000S芯片进行拆解分析，最终美国依旧没有搞明白，华为到底是通过什么方式实现7nm芯片制造的。

面对这个谜题，估计只有等到华为自己来揭晓了，但是，其实，想要突破芯片制造，并非只有光刻机这一条道路，早在两年之前，日本就开启了替代光刻机的芯片制造方案的研发，而在10月14日，日本的佳能公司也是突然放话表示，该公司开始销售芯片生产设备，并表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。

这则消息一出，带来的轰动性估计是前所未有的，因为在过去的20多年里，各国主推的就是光刻机解决方案，ASML公司也正是利用了浸润式的光刻机方案才实现了后来者居上，成功反超了佳能和尼康的干式光刻机方案，并实现一骑绝尘。

不管怎么说，ASML公司的突围都是没有跳出过光刻机这个范畴的，但是佳能这一次的操作，却是直接干翻了光刻机这个体系，俨然是要让光刻机变成“废铁”。

因为，根据现阶段得到的消息来看，佳能的设备采用的是纳米压印技术，也是就是类似于打印机技术，把芯片结构打印在晶圆上，然后进行后续的芯片制造环节，整个流程的成本要比使用光刻机低很多，所以说，一旦佳能的纳米压印设备成功商用，那么ASML公司的市场份额将受到极大冲击。

走到这一步，估计拜登要慌了，因为，这意味着一直以来，美国树立起的芯片封锁壁垒将出现严重缺口，哪怕是是日本也会管制该设备的出口，进而来封锁我国半导体技术的发展，但是，需要注意的一点是，佳能的纳米压印技术，可复刻难度相较于光刻机要低很多。

这也就是说，佳能给我们指出了一条更加快捷的芯片破局方案，甚至可以说，也许我们早就已经开始在尝试这条道路了，毕竟纳米压印技术被重视也就这两年才开始的，说不定我们对于纳米压印技术也已经实现了布局。

所以不管怎么说，这对于我们来说都是一个绝好的消息，同时也意味着芯片市场的格局将更快被改写，因为这无疑给全球更多的科技企业指明了方向，类似于伊朗、俄罗斯等地区都可以开始效仿，所以接下来老美对于全球半导体产业链的掌控力将进一步下降。