众所周知，芯片从设计到量产出货并应用到手机上，中间需要很多个步骤。各个步骤逐渐可谓是环环相扣，每一个步骤都十分重要。我国在芯片整个环节当中，设计、封测等技术已经比较成熟，目前最大的难题在于制造，因为高端光刻机没有办法顺利地送达国内企业的手中，所以芯片制造一直受制于人。

而说到目前能生产出光刻机的企业一只手都能数过来，其中荷兰的ASML企业可谓是行业大哥，而日本的尼康等企业在高端光刻机上已经无法和ASML抗衡，所以目前ASML的地位是一家独大的存在。

这种情况就直接导致需要高端EUV光刻机的国际巨头每年都要向ASML大量购买光刻机。前段时间就传来消息，台积电明年将会至少从ASML的手中购买13台EUV光刻机。要知道ASML去年才生产出26台EUV光刻机，如果产能差不多，明年台积电直接拿走了一半的EUV设备，这个消息对三星来说无疑是一个巨大的打击。

面对自己与台积电之间的差距，三星也是十分发愁。毕竟自己在产能与规模上落后于台积电，而之前自己又定下了十年超越台积电的目标，所以想要实现这个目标，产能上的支持必不可少。所以李在镕之前也是亲自飞往荷兰ASML会晤，其中就包括了洽谈EUV光刻机一事。

而近日，根据韩国媒体表示韩国本土企业在EUV光刻技术方面获得了重大进展，不过具体是哪家企业并没有提起。但这件事情对亚洲半导体来说无疑是一件好事，尤其是对三星，无疑是雪中送炭。

因为一旦韩国本土企业在EUV光刻技术方面取得成绩，无疑是再次提升了韩国在半导体行业中的地位，而这也再一次提升了三星能够在ASML大量进口EUV光刻机的可能性。要知道，其实韩国一直都在EUV光刻技术方面大力研发，其去年在该领域中申请的专利数量为40件，可见韩国企业的实力。

随着韩国在EUV光刻技术方面的进展，未来ASML势必会开始注重韩国企业客户，所以三星至少在产能方面未来会有所提升，而这也增强了三星在未来对抗台积电的实力。这个消息恐怕也是令台积电始料未及的存在，同时自己也迎来了威胁。

看到这里想必会有人有所疑问，韩国在光刻技术方面有所突破，未来会对我国打造光刻机有好处吗？很显然并不能，因为光刻技术只是光刻机研发的一部分，况且韩国即便是在光刻技术上有所突破。

但韩国的光刻技术并不代表全部，也就是说造光刻机还需要其他企业或者国家的光刻技术。不仅如此，光刻机内部还需要大量的零件供应，所以想要靠一个企业或者是一个国家就实现光刻机的研究，有点天方夜谈的感觉。

不过我们还是希望未来我国能够在光刻技术方面有所突破，这样也能够增强我国在光刻领域的话语权，自主研发EUV光刻机在未来的某一天或许才能成为现实。

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