如果说光刻机是人类工业的皇冠，那这里面的几十块光学镜片就是皇冠上的明珠，他们的完美已经有点超自然了。

最新的EUV光刻机中，最大的一块反射镜直径有1.2米，表面最高起伏只有0.12nm，相当于原子直径的1/4。

如果将这块镜片放大到地球这么大，那它表面最高的山峰不超过1.2毫米，这种光滑程度已经逼近物理极限，就算是《三体》中绝对光滑的水滴也就这水平了吧。

为什么光刻机镜片需要这么光滑呢？

简单来说，光刻机就是一台超强照相机，使用极紫外光作为光源，把集成电路复制到芯片上，就像照相机把风景记录在胶片上，但是光刻机生成的极紫外光不能直接用，必须经过几十次反射优化、过滤杂光，才能成为可用的光源。

而每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极高，必须比光刻尺度还要低上1000倍。此外，每块透镜的位置、姿态、间距都有严格的要求，比如位置误差必须小于1nm。

此外，极紫外光光子太脆弱，甚至连空气和水都能吸收它，只有镜片足够光滑，才能最大限度降低反射误差，提高芯片制造的精度。

在具体的镜片工艺方面，除了超精密的打磨和抛光，还可能用到了磁流变抛光、离子束抛光等尖端技术，最终才实现了究极的平整。

这套超高精度的光学系统是德国蔡司公司的独门绝技，每块这样的镜片，都要几十万美元起步，总成本要占到整台光刻机的40%，它也是我们正在重点攻克的卡脖子技术之一。

在光刻机光学系统方面，国内福晶、腾景等光学公司正在努力追赶国际先进水平。

近年来，中国在EUV光刻机光源系统的研发上取得了重大突破。尤为振奋人心的是，中科院近期取得的突破性成果——成功研制出世界上最亮的极紫外光源。这一光源，作为高端EUV光刻机的心脏，其重要性不言而喻。它的诞生，标志着我国在光刻机核心部件研发上迈出了决定性的一步，也向全世界宣告了中国在光刻机领域的领先地位。

荷兰阿斯麦的无奈之言“再多的封锁都是徒劳无功”，正是对这一现状的深刻写照。中国光刻机技术的崛起，不仅将重塑全球芯片市场的格局，更将引领全球科技产业的新一轮变革。

中国光刻机产业的强势崛起已经势不可挡。随着国家对光刻机产业的持续扶持和大基金三期的成立，那些掌握了光源、物镜和光学系统等核心技术的企业，都将迎来前所未有的重大历史机遇，我国在高端光刻机领域国产化将指日可待！

尤为值得一提的是，一旦中国成功研制出极紫外光刻机，中国在半导体工业上也会发生突破性进展。传言中的4nm芯片有望在明年实现量产，这将成为中国芯片产业的又一个重要里程碑。4nm工艺代表着当前最先进的芯片制造技术，它将显著提升芯片的性能和能效，广泛应用于智能手机、人工智能、物联网等领域，让中国的人工智能走在世界前列。

此外，根据市场预测，2024年全球光刻机市场规模有望达到295.7亿美元至315亿美元之间，这一显著增长趋势彰显了半导体产业蓬勃发展的强劲动力以及光刻机市场随之保持的稳健增长态势。

在中国市场，随着半导体产业的加速崛起，对光刻机的需求激增。据统计，2023年中国光刻机产量达124台，而市场需求则高达727台，市场规模已突破160.87亿元。

预计未来几年，随着国内半导体产业的快速发展和国产替代进程的加速，中国光刻机市场规模将进一步扩大。我们相信，路虽远，行则将至，事虽难，做则必成。