我国成功突破技术上的难关，研制出了真空蒸镀机，并且实现了量产。

这意味着一台七个亿排队都买不到真空蒸镀机，终于摆脱了日本的坐地起价，再也不用被卡脖子了。

那么，真空蒸镀机到底是什么设备？它又有什么重要的作用呢？

真空蒸镀机通俗点来说就是一种制造屏幕面板的仪器，也是目前生产OLED屏幕必不可少的一个设备。

它在启动后，能在真空的条件下，对镀膜的材料进行一定的加热，让屏幕的色彩和精度更高，从而提升屏幕面板的整体品质。

而OLED屏是当今显示屏、手机屏幕、电脑屏幕最主流的使用类型。

据相关资料显示，从2019年到2022年，我国对OLED 屏幕的需要量从2.9亿片上涨到了4.5亿片。

由此可见我们对生产OLED屏最重要的设备，真空蒸镀机的需求也是相当大的。

然而，在过去很长一段时间里，我们在真空蒸镀机领域都受制于人。

因为真空蒸镀机对技术要求很高，往往其中的一条真空生产线就有近百米长。

同时每个部分都要保证其产品的精准和准确度，这也是我国迟迟没有攻克的技术难关，只能依赖于进口。

而真空蒸镀机的所有技术基本都掌握在日本的佳能手中，他们通常会优先将生产的高空蒸镀机出口到美英韩等国家。

我国即使愿意出高价，最后往往也只能够得到一两台机器。

这对我国的华为、小米等对OLED 屏幕有需求的企业来说无疑是十分有影响的。

之后，为了摆脱该项技术被国外“卡脖子”，我国加大了投资和研发力度。

终于在全体科研人员不懈的努力下，我国欣奕华团队成功攻克了对位系统、蒸发源等真空蒸镀机的数项技术难关，研发出了真空蒸镀机。

紧接着，中山凯旋、合肥莱德等企业也都成功研发，实现了真空蒸镀机的量产，让我们国内厂商也能有足够的OLED 屏幕使用。

.在中国研制出真空蒸镀机之前，日本的真空蒸镀机一直独霸全球，7个亿一台的真空蒸镀机，甚至一度排队都买不到。

日本从上个世纪八十年代开始就已经将研究重心放在液晶显示屏上，当时日本在这个领域还是一个小白，毫无经验可言。

但不得不承认的是，他们在钻研和创新方面确实很在行，通过从美国那里学习液晶显示屏的相关技术，再结合自己的技术手段，日本很快就掌握了OLED 屏幕有关的核心技术，包括能生产出OLED 屏幕的真空蒸镀机。

并且，日本还青出于蓝而胜于蓝，比它的老师美国的生产技术还要好，直到现在，美国的苹果公司还要从日本来进口手机的OLED 屏幕。

值得一提的是，日本唯一掌握真空蒸镀机技术的企业是佳能旗下的Tokki，这是津上照久的父亲于1967年创建的，只是一个相当小的公司。

到目前为止，它的员工也就不到三百五十人，所以每年生产出的真空蒸镀机只有不到十台的数量，这也导致一台真空蒸镀机的价格达到了7亿元。

但即便如此，受市场的影响，真空蒸镀机仍是一机难求。

而佳能垄断了高空蒸镀机的相关技术后，真正意义上做到了在国际市场上一家独大。

据悉，佳能的蒸镀机常年占据全球市场份额的百分之九十五以上，每年只有不到百台的产量，却能让他们的利润达到五十亿元。

虽然价格有些过高，但Tokki的蒸镀机质量也确实过硬。

用它的蒸镀机生产出的OLED屏色彩艳丽，精度极高，也是苹果和三星的首要选择。

之前，三星手机的屏幕质量这么高，OLED屏产量如此丰富，Tokki的蒸镀机可以说是功不可没。

并且，我国的京东方公司曾经愿意出价近八亿想买一台Tokki的蒸镀机，人家根本就不搭理我们。

一方面他们不愁市场，一方面他们还想用自己的垄断地位抑制我国在手机、电脑等领域的发展。

真空蒸镀机在日本的垄断下，导致我们OLED屏幕的生产进程曾经举步维艰。

现在，国产的真空蒸镀机横空出世，它与日本的真空蒸镀机相比，又孰强孰弱呢？

如今，中国的多家企业先后完成真空蒸镀机的研制，弥补了我国企业在屏幕这一领域的空白，不再受制于人。

同时也打破了日本在蒸镀机领域的垄断地位，未来必将为我国带来巨大的经济效益。

并且，我们的蒸镀机具有后发优势，例如我们中山凯旋发明的k-200蒸镀机不仅具有日本蒸镀机的功能，还添加了很多新的功能，更具有吸引力。

同时，我国生产的蒸镀机覆膜精度达到了1.5微米，已经是世界一流的水平。

反观日本的佳能，因为一直以来没有对手，这也让他们的设备还停留在刚开始的水准，覆膜精度只有3微米。

而且生产效率也较低，大部分零件都亟待更新，再不升级改造必将被我国实现弯道超车。

但就目前来说，我国的真空蒸镀机还处于刚刚起步阶段，很多技术都还不够成熟，所以较之日本的蒸镀机来说还是有着不小的差距。

更何况，因为我国的蒸镀机是一个“新生儿”，所以还没有得到世界市场的认可，把它打入市场、获得肯定还需要一定的时间。

其实，我国的芯片也和蒸镀机有相同的境遇，也是一直被国外卡脖子。最

著名的就是我国著名手机品牌华为，因为芯片问题可谓是损失惨重，国内人民对此也是有苦难言。

虽然说，目前我国在芯片的设计上，华为的麒麟芯片已经和国内最先进的3nm芯片技术相差无几。

在封测上，全球十大封测厂商前五名我国企业就占了两位，也有不俗的实力。

但是在芯片制造上，却被国际同行拉下了至少20年的差距。

再加上国外禁止向我国出口相关的先进设备，我国芯片短时间内还是很难克服障碍完成突破。

种种迹象都表明，虽然我国目前正加速发展，但在很多方面依然存在着严重的不足，蒸镀机如此，芯片如此，包括更多的被国外卡脖子的核心技术更是如此。

我们需要正视自己技术上的不足，然后去努力克服！