导语: 在我国半导体领域近年来取得了飞速发展,光刻机是其中尤为吃紧的一份资料。
在半导体领域,光刻机可谓是“至关重要”的工具之一。
光刻机作为制造半导体的主要设备,它的重要性甚至可以与大飞机进行相比较。
近期我国在光刻机的日益紧张下也迎来了喜讯,近日复旦大学政治系的沈逸教授在访谈中对国产光刻机进行了评价: “国产光刻机的技术水平更相当于ASML十到二十年前的设备了。”
然而也沉重的指出我国国产光刻机与荷兰ASML公司之间有着巨大的差距。
沈教授讲述我国与ASML之间的光刻机差距。沈逸教授表示:“我国产光刻机与荷兰ASML两者之间技术水平存在明显差距。
就以目前我国自己研发成功的光刻机来说,可将其放眼到全球范围内,将其与国外光刻机进行对比效果而言,我国此款光刻机与荷兰ASML十到二十年前的设备水平大致相当。”
沈教授进一步分析道: “具体而言,如果将我国国产光刻机放置在荷兰ASML生产线中进行评估,那么其大致处于较早期的stage1或stage2阶段水平。
然而若是放到荷兰ASML十年后的设备线中进行评估,那么其技术水平则相对落后,大致处于stage3或stage4阶段。”
虽然沈教授评估我国国产光刻机与荷兰ASML之间存在巨大的技术水平差距,但他并没有对此表示气馁。
沈教授再次重申道:“我国产光刻机虽然与荷兰ASML之间存在差距,但根据目前我们已经能够生产出一定技术水平的光刻机这一事实来看,我并不认为这一差距是无法逾越的。”
沈教授对于我国产光刻机的此次研发成果持有肯定态度,他认为:“只要我们继续坚持改进这种国内生产的光刻机技术,并不断进行完善,未来还有着无比辽阔的前景和发展空间可供探索。”
此外,在接受采访时沈教授表示:“我国产光刻机虽说尚有差距,但我们应该从非美供应链中去看待这一问题。”
他强调称:“我国产光刻机虽然当前还未达到非常成熟、完美的程度,但它已经能够几乎完全覆盖住成熟制程工艺了。”
而且他更进一步指出了一个非常重要的方面:“这款国产光刻机固然还有很大的提升空间,但它在军事领域方面却能完全满足我们的要求!”
光刻机是否适用和价格高昂。由于在军事芯片领域对光刻工艺有着非常严格的要求,而根据目前核电等先进半导体技术所需要的标准来看,现阶段我国已经能够完全掌握这些技术了。
特别是在军事技术不断地被其他国家模仿以及削弱我方竞争力等威胁状况下,此类专利可以极大地加强我国主权芯片产业链中关键环节的安全性和稳定性。
可以说若是这类专利落到美国、法国及其他西方发达国家手中,他们很有可能通过这一手段对中国企业进行重大制裁以及阻止和打压国内进一步掌握生产精密抗干扰芯片技术能力.
这样的举措将使中国芯片企业付出巨大的代价,使其遭受重大损失,同时也将导致其在掌握相关技术方面更加艰难,进而拖延国家在这一领域的发展脚步.
正因如此,在此情况下我国产出相当于ASML十到二十年前技术水平的光刻机的重要性显而易见,国外一些评论甚至认为这将加速中国相关技术的飞速发展。
关于我国研发出的这款光刻机沈教授作出的总结便是: “对于成熟工艺,我国现阶段制造出来的光刻机能够完全满足该制程需求了。”
而中国工程院院士杨福之也说到:“我国目前拥有足够先进水平的光刻机可以制造出完整的12英寸晶圆。”
这也进一步证明我国自己研发出的这款光刻机能够满足当前生产要求,并且可以达到商业化使用。
三代节点或更低节点甚至可能使用这款国产光刻机设计和制造生产出来的新一代芯片。
尽管我国产作出的型号上已经有产品进入30系列,但沈教授却认为此时装备此设备确属浪费,因为当时更高级别的制程尚未被广泛应用。
那么为什么更高级别的制程尚未被广泛采用呢?
其实就是因为这些制程需要更高精度,以及更高等级的光刻机来满足工艺需求,而当时国外先进水平的阶段级别尚未到达那一精度要求。
但是在不久之后,美国将这一现象直接扼杀了,因为他们担心中国用这一先进技术掌握制程技术,从而使得自身技术领先优势丧失殆尽,于是对中国进行了封锁,将该项尖端技术列入出口管制清单,加大对中国相关技术出口管制,并强化其出口管制措施以抑制中国相关技术的发展。
未来光刻机的发展趋势。随着进口先进光刻设备禁售令颁布,全球半导体制造设备行业都对此议论纷纷,这反而激励国内科研单位、科研机构加速研发并尽快赶上国外水平,最终实现部分自主可控,部分受控于人。
沈教授还表示:“既然我国已经具备了制造出一定等级的光刻机,那么就意味着我们现在离突破世界领先水平不是很远了。”
未来,从研究方向来看,国外先进光刻机一定会逐步从干式技术向浸润式及极紫外线转变发展趋势,因此这些研究思路应该引入国内实力更强大的科研机构,绝不能停滞不前。
否则一旦有朝一日国外再放开出口限制,我国无疑会失去良好的研究时机,为国际半导体行业的发展做嫁衣。
此外,荷兰ASML公司为了保住连年攀升业绩、高额利润,同时为这个正在步入衰退的国家提供更多就业岗位,重振经济活力,也必将尽快找到与我们合作的方法。
不然若是再过若干年之后,中国取得巨大的科技成就,挤身世界顶尖强国行列,彰显国家实力与综合国力,这个时候再来合作,那就是杯水车薪,希望渺渺。
中国市场如此广大丰厚等着被开发利用,如果最终抛弃中国这个市场,美国等国固然依旧,但是荷兰会失去无数订单和收入,对本国经济都会带来巨大的影响!
可谓得中国者得天下!
你是教授你會研發嗎。恐怕你40年都達不到外國水平。自己是什麼東西。
政治系教授说光刻机你也信
沈教授,你能为国产光刻机做点什么!!?
都是外行的教授在讲,内行的都不说。
以前海军和空军也认为相差几十年,现在追上了,
这种就是叫兽,啥用没有
有比无好,要鼓励[点赞]
光刻机高端芯片包括超算,我们现在都是只做不说。能公开的信息至少都是一两年前的数据。华为受到了全面制裁,依然能够生产出全球独有的3.6毫米超薄三折叠手机,和强的飞起的M70,里面的芯片有多高端?你们猜去吧。
认识到差距就会想办法缩小差距,但至少我们凭一己之力造出来了光刻机,比坐以待毙好!
政治学的叫兽,嘿嘿!
原子弹也是从有到无的,值得期待!
中国光刻机现在可能是阿斯麦斯10—20年前的水平,但要突破追上阿斯麦的水平。我估计5到10年就够了,因为现在人工智能对科研的帮助太大了。
你儿子和你有二十五年差距,最终代替你
一个学政治的,滔滔不绝的谈论光刻机[呲牙笑]
这屁很臭,知道20年前的光刻机是多少纳米级的吗?
同事张公公义愤填膺
政治系教授,评价光刻机[呲牙笑][呲牙笑]
摩尔定律失效了,芯片制程到头了,时间上差20年,空间上其实也就一点点了,asml会在那等我们20年的
油车我们还没追上,然而电动车我们超越了。同是车用途一致,换个赛道时间差距变成负数了。
有差距是正常的,只要坚持发展就好!
差距不必怕!怕的是固步自封,不思进取!只有奋发进取,差距就是用来缩小的!强敌就是用于超越的目标!
政治系教授对光刻机领域也有研究?
哦 不远嘛 才20年 他们差我们起码4700年 还叫兽
但比经我们有自己的光刻机了,老美卡不了中国了!
其实,承认差距很难吗?难道就要一直无脑的吹?
其实己经很委婉了,但还是被大傻子骂[哭着笑]
不知这个教授说的20年的差距是如何计算出来的?!
都是山寨货[点赞][点赞][点赞]
落后很多是事实,沈只是说事实而已,能生产出来就是开了个好头,继续努力吧。
不搞,就是40年的差距
差距肯定有,但是不能不做,不做就是死,做还有一点机会!😏
外国是多国通力合作材有的能比吗
实事求是!正视差距!稳扎稳打!寻求突破!…
怂货!!!
落后10多年???叫兽张口就来,依据呢?来自美国报刊的文章?[点踩][点踩][点踩]