光刻机是制造芯片的核心设备，被誉为现代工业皇冠上的明珠，人类科学家经过长达半个世纪的探索才造出来，可以说，EUV光刻机从最初的设计到生产的这个过程，集结了全人类智慧的结晶。科学家研发EUV光刻机是为了更好地为人类服务，但以美国为首的西方国家，为了自己的利益，却将EUV光刻机当成了私有物品，禁止向中企出口。

在中美科技竞争不断升温的当下，我们有不得不发展EUV光刻机的理由，只有实现了EUV光刻机的国产化替代，国内科技企业才能彻底摆脱芯片被卡脖子的命运。在美日荷媾和妄图将我国排除在世界半导体产业链之外的关键时刻，网上流传出一条清华EUV项目落地，并将建光刻机工厂的视频。更让人没想到的是，这条视频还配有外媒的评论：“中国人真的不好惹！”

光刻机是芯片制造过程中最核心的设备之一，它的主要作用就是将芯片设计图案投影到硅片上，且它的精度和稳定性直接影响到芯片的工艺、良品率和性能。随着芯片制造工艺的更新迭代，EUV极紫外光源光刻机已成为决定各大芯片制造企业行业话语权，乃至衡量一个国家整体科技实力的一个标尺。

近几年来，随着华为芯片事件的不断发酵，国人对国产EUV光刻机的期待达到了一个顶峰，无时无刻不在关注着国产EUV光刻机的研发进程，所以，掌握一种新型粒子加速器光源 “稳态微聚束”的清华大学EUV项目落地，并将在雄安新区建成一座光刻机工厂的消息一经传出，迅速引起了网友们的广泛关注与讨论。

然而，在国人准备为即将问世的国产EUV光刻机庆祝的时候，国家的正式回应来了，明确表示这个消息是假的。中国电子院发文称，网传的清华大学的光刻机工厂是北京高能同步辐射光源项目。

据官方公布的信息显示，北京高能同步辐射光源项目是我国第一台高能量同步辐射光源，同时也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源，主要用于科学实验，探索微观世界。某些人抓住国人期待国家突破EUV光刻机技术，彻底打破美国科技霸权的心理，散播假消息博取流量，割国人粉红的韭菜。

实事求是的讲，我国光刻机产业的整体水平与西方国家存在着一定的差距，短时间内，仅凭我们自己的力量，很难造出EUV光刻机。以荷兰ASML公司的EUV光刻机为例，它所使用的元器件数量高达十万件，且每一件都代表着业内的最高水平，而在荷兰ASML公司EUV光刻机的供应商名单上，没有一家中国企业的名字！

EUV光刻机虽然尖端，但也不是神造的，中国人完全有能力造出来，只不过需要时间罢了，要知道，中国企业已经掌握了光刻机三大件的核心技术（双工件台、物镜系统以及曝光系统），并且在短短的两年时间内，将国产光刻机从90nm推进至28nm阶段，且通过多种曝光技术，能够制造出7nm制程的芯片。华为Mate 60 Pro所搭载的麒麟9000S芯片很有可能就是国产光刻机造出来的！

最后，希望无论从事任何行业的国人，都能站好自己的岗，只要我们团结一致，他人都不敢轻易地欺负我们，毕竟被人欺负的滋味，只有我们中国人最有体味。