导读：现在中国终于下决心要攻克光刻机了，中国到底行不行成为大家的疑问。但是只要做到这一点，相信中国半导体腾飞就不是梦！

美国这些年一直在想着法子卡着中国科技前进的步伐，在这里面最重要的一环就是阻止中国获得最先进高端芯片制造的光刻机。美国在打压华为的事情上，光刻机成为华为唯一没有备胎方案的问题，随着美国打压的升级，攻克光刻机这个难关已经成为中国最紧迫的项目了！

日前中国科学院下定决心要把光刻机这个项目当成最重要的科研项目，要彻底地把光刻机给攻克了，那么中国攻克光刻机到底有多难？中国到底行不行？

关于光刻机有很多的说法，有很多人荷兰的光刻机是造几十年的发展才有今天这个最先进的光刻机的，中国人无法攻克的。荷兰工程师也曾经扬言给了中国图纸，中国也造不出荷兰ASML那样的光刻机。也有人说光刻机有高达10万个零件，里面有很多美国的技术和零件，而现在美国不可能出口这些零件，中国也就无法攻克光刻机了。

其实他们的说法都有点道理，然而其实也不完全在理，首先荷兰光刻机确实是经过长时间的发展才有现在的性能，给中国图纸中国可能也造不出，但是荷兰的光刻机也是近十几年才突然发展迅速起来，因为世界科技在近十几年的时间发展提了速，才让荷兰光刻机有今天这个地位。而中国近十几年的在很多科技上的发展也是非常迅速的，比如说上海的微电子就靠自己打造出了完全国产化的光刻机，性能虽然不及荷兰的光刻机，但是上海微电子成立时间只有18年，而光刻机的研发甚至只有14年的时间，这对于一家研发光刻机的公司来非常难得！

还有人说光刻机高这10万个零件，中国不可能完全都自己造，光刻机零件确实多，科技含量也高，但是这里面其实大部分中国都可以生产出来，中国是联合国里唯二全工业的国家，如果说荷兰的光刻机零件有10万个，那上海微电子的光刻机的零件少说也有九万多个，剩下的一些零件，有一部分是其性能要求高，但这些零件在中科院和华为等企业的助力下攻克只是早晚的问题！

对于中国攻克光刻机一事最大的拦路虎其实还是经济效益问题。拿中国最先进的光刻机制造公司上海微电子来说，它已经研发出中国最先进的光刻机，但是它的研发经费居然只有6个亿，这对于研发光刻机来说根本就是九牛一毛啊，像荷半ASML的光刻机一年的研发动不动就数十亿美元，之前在研发受到困扰之时，ASML还直接向三星和台积电等股东要了数百亿美元的投资，而上海微电子仅仅只有6亿人民币的研发费用，我是真的知道它是怎么靠这6亿研发费用研发出28NM的光刻机的?

经济效益问题困扰的不止是光刻机，在整个中国半导体产业上都是一个极大的困扰，过去我们在半导体上的投资真的是太少了，真的要攻克光刻机，要彻底解决美国卡脖子的问题只需要做加大投资研发这一点，其实很多问题都迎刃而解了，当然半导体投资是个投资高回报周期长的投资，但是现在我们已经不能再考虑回报问题了，对于中国半导体来说，要腾飞只有不断加码投资，才是我们唯一的出路！

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