在半导体制造领域，光刻机与量测设备对生产环境的洁净度要求堪称严苛。以光刻工艺为例，其作为芯片图形转印的核心环节，对空气中0.1微米级颗粒的容忍度近乎为零。而半导体量测设备作为制造流程的"质量守门员"，同样依赖超高洁净环境以确保纳米级检测精度。

根据国际标准ISO 14644-1，洁净环境等级按单位体积内悬浮粒子数严格划分：

ISO 1级：每立方米≥0.1μm颗粒物≤10个

ISO 3级：每立方米≥0.1μm颗粒物≤100个 此类极限洁净要求，成为制约高端芯片良率与设备稳定性的关键因素。

南京拓展科技旗下企业，极测（南京）技术有限公司凭借自主研发的高精密环控设备，成功攻克ISO1级洁净环境技术壁垒，可在设备工作区实现：

✅ 温度波动≤±2mK（静态工况） ✅ 洁净度稳定维持ISO 1级（局部优于ISO 1） ✅ 湿度偏差＜±0.5%@8h ✅ 持续无故障运行

目前，该技术已应用于国内多家半导体头部企业的光刻区环境控制项目。极测（南京技术有限公司）还可为不同规模的晶圆厂、量测设备供应商提供，覆盖设备内置微环境控制的多元场景，助力国产半导体产业链突破"环境卡脖子"难题。