曾经，中国科技界就受到过这样的质疑：“中国能造光刻机吗？”

这个问题不仅拷问着我们的科技实力，更深深刺痛了我们的民族自尊心。而中科大副院长朱士尧，曾在一场公开演讲中直言不讳地表示：“美国做不到（完全自主研发高端光刻机），中国更没可能。”

朱士尧院长的言论，无疑给当时的中国科技界泼了一盆冷水，刺痛无数国人的心！

毫无疑问，光刻机作为半导体制造的核心设备之一，其技术难度和全球供应链的复杂性，让许多国家望而却步。它就像一把精密的“雕刻刀”，在微小的芯片上雕刻出复杂的电路图案，是制造高端芯片不可或缺的关键设备。光刻机在芯片制造中的重要性不言而喻，其高精度要求更是让人叹为观止。

然而，就在这样的技术壁垒面前，中国在2024年取得了重大突破——氟化氩光刻机（新一代DUV光刻机）成功进入推广应用阶段。氟化氩光刻机以其独特的技术特点，如更高的分辨率、更低的制造成本和更稳定的性能，迅速赢得了市场的青睐。它的出现，不仅打破了国外技术垄断，更让中国在光刻机领域迈出了坚实的一步。

提到光刻机，就不得不提荷兰ASML公司。这家在全球芯片生产中占据重要地位的企业，一直是中国光刻机领域的强劲对手。然而，随着中国氟化氩光刻机的成功研发和推广，ASML的垄断地位正在受到前所未有的挑战。面对光刻机技术的挑战，中国科学家没有选择盲目跟随国外技术路径，而是选择了纳米压印技术作为创新之路。

这项技术以其设备简单、成本低、分辨率高等优势，成为了中国光刻机技术的重要突破口。纳米压印技术的成功应用，不仅让中国在光刻机领域取得了重大进展，更让我们看到了中国科技创新的无限可能。我们不再局限于国外技术路径，而是走自己的创新之路，用科技的力量书写着属于我们的辉煌篇章。

在DUV光刻机领域取得突破后，中国并没有停下脚步。相反，我们更加坚定了向EUV光刻机进军的决心。EUV光刻机作为下一代高端光刻机，其重要性不言而喻。

而中国在此领域的进展，也让人眼前一亮。虽然与荷兰ASML相比，我们在EUV光刻机技术方面还存在一定差距。但不可否认的是，中国已经取得了巨大的进步。我们的科研团队正在夜以继日地攻克技术难关，为实现EUV光刻机的自主研发而努力奋斗。

光刻机技术的突破，只是中国科技发展的一个缩影。在高铁、航天、人工智能、新能源等领域，中国同样取得了举世瞩目的成就。

我们用实际行动向世界证明：中国，这个曾经被质疑和嘲讽的国家，正以惊人的速度奔跑在全球科技最前沿。从“中国制造”到“中国创造”，我们走过了漫长的道路。每一步都充满了艰辛和挑战，但每一步都凝聚着中国科学家的智慧和汗水。他们用科技的力量，书写着属于中国的辉煌篇章。