"中国永远不可能造出光刻机！"
这句话如同一道惊雷，在中国科技界和社交媒体上引发了巨大的震动。
令人意外的是，这番令人沮丧的言论并非来自某个西方国家的科技专家，而是出自中国科学技术大学副院长朱士尧之口。
作为一位备受尊敬的学者和科研管理者，朱士尧的话犹如一盆冷水，瞬间浇灭了许多中国民众对于国家能够自主研发光刻机的热切期望。
那么，事情真的如朱士尧所言那般绝望吗？
一位教授的"泼冷水"言论其实，一开始只是一位博主在短视频平台上，信誓旦旦的告诉网友们：“5年内很有可能会研究出光刻机”。
然而,就在人们为这一预测欢欣鼓舞之际,一位名叫朱士尧的中科院教授却泼了一盆冷水。
朱士尧在接受采访时直言不讳地表示:
"美国造不出光刻机,中国更造不出来了!"
这番言论一出,立即在网络上引发了轩然大波。
起初,许多网友对朱士尧的观点表示不满,认为他言论偏激,有损国家形象。然而,当网友开始指责他的时候，却发现，这个人竟然是中科院毕业的半导体博士,还曾在华为担任过党支部书记,目前仍在中科院任职。
这么一对比，似乎朱士尧更有发言权了。
不过，也有人觉得连朱士尧这种专家都觉得研究不出来，那么中国研制光刻机的前景恐怕真的不容乐观。
然而，更多的人觉得作为一名科学家,朱士尧的言论有失偏颇,尤其是他这种消极性的回答，太伤科研员们的心了，这样让他们在研究光刻机的事情上，会产生消极心理。
但争议之外,更多的人开始好奇:光刻机到底是什么?为什么它的研制如此艰难,以至于连美国这样的科技强国都难以独立完成?
现代科技的"珠穆朗玛峰"只不过在了解光刻机为何艰难之前，我们应该先明白它的构造机制。
根据了解，光刻机主要由光源、透镜和投影仪等多种光学系统组成。
这听起来似乎并不复杂,但以光源为例,它内部的零件就多达5万个。而且,目前全世界能够制造这种光源的,只有荷兰的一家公司。不仅如此,光刻机的工作台同样复杂,由超过5万个零件组成。正是因为这种极致的精密性,光刻机被誉为"全球最精密的仪器之一"。
而它主要的用途就是制作芯片等一系列高精密的电子设备。
在芯片制造过程中,光刻机的作用类似于一台超级精密的照相机。它将芯片设计图像缩小并投射到涂有光刻胶的硅晶圆上,形成纳米级的电路图案。这个过程的精度直接决定了芯片的性能和集成度。
如果光刻机的精度不够,就会影响芯片的质量和性能。这就是为什么光刻机的研发如此困难的原因。
事实上,截至目前,全世界还没有一个国家能够完全独立地制造出最先进的光刻机。即便是现存的顶级光刻机,也都是集合了多个国家的技术和零部件才得以完成。
任重道远但希望犹存这些年我们中国一直都是跟国外进口仪器，还从来没有自己的设备。
但按照我们以往的风格，有些东西我们可以不用，但是不能没有，更何况是光刻机这种需求品。
为此，中科院联系一家专门制作微电子的公司，联合研究光刻机技术，据说已经有了不小的收获。
更令人鼓舞的是,哈尔滨工业大学的研究团队将光刻机的计量能力提升到了7纳米水平,这意味着理论上可以生产7纳米的芯片。
虽然每一种成功都是巨大的，但想要攻克光刻机，还需要几千种难题，甚至有可能是上万种。尤其是在极紫外（EUV）技术上面，别人已经处于行走状态了，可我们还只是刚刚开始爬。
但是再大的难题，放在中国人身上都只是时间问题，犹如多年前我们研究氢弹、核弹的时候，不也是重头开始的吗，不也是自己一步一步摸索出来的！
既然氢弹跟核弹都能研究出来，那么只要有足够的坚持，光刻机也终将会出现。
挑战与机遇并存尽管中国在光刻机研发上取得了一定进展,但挑战依然严峻。首先是技术壁垒。最先进的EUV光刻机涉及数百项核心专利,这些专利主要掌握在少数西方公司手中。如何在不侵犯知识产权的前提下实现技术突破,是中国科研人员面临的一大难题。
其次光刻机设计多领域，自然也需要多领域的专家协同合作，可我们恰恰正好缺
此外,国际形势的变化也在某种程度上推动了中国加速自主创新。这种"压力式创新"虽然充满挑战,但也可能激发出更大的创新潜力。
结语回顾这场由朱士尧教授言论引发的争议,我们可以得出这样的结论:在科技创新的道路上,既要保持理性的态度,客观评估自身的优势和不足;也要有坚定的信心,相信通过不懈努力,一定能够实现目标。
光刻机研发的道路或许还很长,但只要我们坚持自主创新,集中力量办大事,就一定能够克服困难,实现突破。
在科技创新的道路上,我们需要的正是这种理性与信心并重的态度。让我们携手并进,为中国科技的腾飞贡献自己的力量!
信息来源：
《晨枫：美国在芯片领域“卡脖子”，中国有哪些应对？》——观察者网
海峡快报——2020-09-22《中科院强势发声，剑指光刻机，解决西方卡脖子的难题》
