最近清华大学爆出重大动作，清华也不甘落后！

据报道：清华大学主导的1千瓦级551\/18±5/光源在雄安新区落地，直接弯道超车了！美国的极限制裁极大的加速了国内光刻机的研发速度，原本这种天马行空的想法只能停留在I3！3丁上和实验室里，现在出于国家战略需要，国家让它迅速落地！

据说清华大学的於工11丫光源，周长100-150米，输出功率大于100077,可以同时带动多台光刻机工作，并且3纳米、7纳米、14纳米…可以自由调节和选择。

据透料：清华大学EUV光源（工厂化）方案，就建在雄安新区。输出功率＞ 10KW，加速器长度〜200米，宽度〜20米，用分光器供几台甚至几十台EUV同时使用，非常暴力的用大型厂房替代光刻机的方案。而国际有名的阿麦斯的EUV光刻机的光源功率才250W，清华大学EUV光源（工厂化）方案这个大40倍！同步辐射是大型科研装置，原本用于极紫外波段的科学研究。中国要用来刻芯片，简单暴力高大上。

最近华为推出自己的芯片，代表中国芯片领域的重大突破，清华的EUV光源（工厂化）方案如果投产，中国将会突破光刻机的限制，直接实现弯道超车，世界上没有任何一个国家可以单独制造光刻机，如果中国掌握了光刻机，那么将会在芯片领域处于领导地位！