台积电六骑士,一个不来大陆,一个扎根大陆,剩下几个频繁跳槽

谈数码过千里 2024-02-04 03:51:36
前沿导读

台积电作为国际上首屈一指的晶圆代工厂商,其工厂打造的芯片产品一直以来被行业奉为标杆。其他像是三星、英特尔、中芯国际等晶圆企业,都在业务上面被台积电稳压一头。三星曾经在14nm节点反超了台积电,但是由于三星是越级发展的,在技术底蕴和稳定性上面要差于台积电的16nm。

台积电内部有六位技术人员,并成为“台积电六骑士”,这六位人员分别掌管着不同业务板块。曾经台积电辉煌的时候,就是靠着六骑士分工合作才打败了国际上的同行。如今六骑士已经从台积电退休或者离职,各奔东西。

打败IBM

横看台积电几十年的发展史,最为知名的事情就是与IBM在130nm技术节点的竞争当中,台积电凭借着自主技术率先从150nm突破到130nm节点,压住了IBM,成为了当时市面上技术最先进的晶圆代工企业。

助力台积电打败IBM的关键人物,就是六骑士之一的梁孟松与他的导师胡正明。

梁孟松是台积电中负责制程技术研发的人员,台积电每一次的技术革新,都有他的参与。还有林本坚,光刻系统技术的引路人,曾经开发出了浸润式光刻法,直接让国际光学技术领域突破了技术瓶颈,进入了下一次技术阶段。

孙元成、杨光磊主要负责的业务板块是逻辑制程,以及提升产品良品率的业务负责人。

余振华则是半导体材料方面的负责人,从事铜制程工作的技术开发。他曾经开发出了180nm的铜制程技术,为台积电后续的技术研发奠定了技术底蕴。

剩下最后一个人是蒋尚义,六骑士中的指挥者,也是台积电领导层面的人物,负责掌控企业发展的方向。

内部竞争

蒋尚义作为领导层,在他即将退休之前,准备提拔研发副总。梁孟松与孙元成共同竞争这个职位,在许多人看来,这个职位非梁孟松莫属,毕竟他在制程技术的开发上面为台积电打造了深厚的技术壁垒。但是蒋尚义最终是提拔了孙元成,这让梁孟松感觉自己的付出与回报不成正比。

后来梁孟松再次为台积电研发出了先进制程技术,但是内部高层的反响平平,也没有提拔他的打算,于是梁孟松选择了离职。

在他离职之后,三星电子立马派人找到他,请求他加入三星。条件特别丰厚,除了高于台积电3倍的薪资以外,还承诺会把他提拔为项目负责人,全权掌控三星晶圆技术的研发进度。

没过几年,梁孟松公开宣布加入三星电子。在他加入三星之后,带领三星团队放弃了20nm节点,直接从28nm越级发展14nm。

两三年的时间之后,三星14nm晶圆技术正式量产,这就来到了开头提到的三星反超台积电。三星14nm量产之后,同期的台积电在半年之后才稳定了16nm制程技术。由于三星的技术越级发展,没有台积电的技术底蕴深厚,所以在产品的稳定性和效果上面,要略逊于台积电的16nm。

但是梁孟松助力三星在晶圆代工领域飞速发展的情况,招来了台积电的不满。随即台积电起诉梁孟松和三星,侵犯技术专利。

本身梁孟松就是台积电出身的,在这次专利大战当中,三星一直处于劣势地位。最终法院判决台积电胜诉,驳回梁孟松回到三星工作的请求,梁孟松从三星离职。

梁孟松离开三星之后,大陆的中芯国际找到他请求合作。权衡再三,梁孟松回到了中国大陆,来到中芯国际掌管技术研发。

当时中芯国际已经被卡在28nm很长时间,正处于技术瓶颈时期,再加上大陆的半导体技术本身发展速度就没有海外企业快,起步慢,梁孟松成为了中芯国际的救命稻草。

梁孟松技术大师的身份不是白来的,只用了不到300天,中芯国际14nm技术研发完成。紧接着梁孟松带领中芯研发团队继续攻克了12nm、n+1等技术节点,迅速缩短了大陆晶圆企业与海外老牌厂商的技术差距。

华为的麒麟710A,就是中芯国际用梁孟松带队研发的14nm技术完成的作品。

随着时间的推移,中芯国际把蒋尚义也请了过来,担任项目领导,成为了梁孟松的上司。这个事情梁孟松提前并不知情,于是在他知道此事之后,他感觉到自己没有被企业尊重,于是提出离职,此事在网络上掀起了轩然大波。

事情发酵以后,中芯国际发布公告称正在与梁孟松进行协商,然后就没有下文了。不过根据中芯官方后续的信息来看,梁孟松并没有辞职,中芯国际还把他的待遇提升了不少。不过梁孟松在辞职信中也说了,来大陆不谋取高官厚禄,只为给大陆芯片事业尽一份力。

也正如他所说的,梁孟松的薪资捐给了中国宋庆龄基金会,用于挖掘在中国大学中,在芯片行业求学的学生。目前梁孟松还在中芯国际任职,担任CEO。

而蒋尚义却在之后进行了辞职,辞职之后去到了武汉弘芯担任董事。武汉弘芯的口碑很差,是个打着研发芯片的旗号哄骗国家补助的企业。弘芯倒了之后,蒋尚义去到了鸿海科技集团担任半导体策略长,后来鸿海科技旗下有个新的封装厂叫讯芯,蒋尚义担任讯芯的董事长。

技术革新

说完了梁孟松和蒋尚义的恩怨,下面来说主攻光学的林本坚。

林本坚是国际光学领域的引路人,也是光刻机设备行业的开拓者之一。曾经的光刻机设备在153nm向下发展的时候陷入了瓶颈,林本坚采用逆向思维,用水当做介质,替换掉之前的空气介质,成功的将193nm波长缩短至134nm,突破了光学领域的技术瓶颈,林本坚将这种方法称之为“浸润式微影方法”。

在开创新技术的期间,林本坚加入到了台积电。

浸润式微影技术刚起步的时候,老牌光刻机厂商佳能和尼康持保守态度,在林本坚找到日系光刻机厂商谈合作的时候,佳能尼康并没有答应他的合作。反而当时荷兰的asml选择赌一把,答应跟林本坚合作,采用新技术应用到自家的光刻机产品中。

结果显而易见,asml新技术的光刻机在市场上面的竞争力越来越强,几年之内就反超了日系光刻机厂商,坐上了国际光刻机领域的头把交椅。

由于asml是最早采用林本坚新技术的厂商,所以asml跟台积电也一直交好,每次asml的EUV高精度光刻机问世,台积电都是最大的合作方,其次是英特尔等美国企业。

林本坚现在已经是台湾清华大学特聘的研究讲座教授,曾经有媒体采访过林本坚,跟他交流了中美科技战,以及大陆在未来能否赶超国际主流水平等犀利的问题。

林本坚是这样回答的:

我觉得大陆这边是有很多很好的先天条件。第一就是有市场、有机会,只要你做得好,有机会做很多芯片,有量。然后是有人,有很多人才,有好多学校,这些都有了。但是你怎么样让他们觉得半导体很重要,因为现在年轻人都要做很多别的事情,这些都是要去努力的。

说的很直观,大陆有条件去搞半导体微电子等新兴产业,但是很多校企或者学生没有意识到半导体是个较为重要的新兴产业,需要大力跟进。这也就导致了许多学生明明是科班出身的,但是找不到对口工作,只能去干其他行业。

这个情况在上海市高管、中芯国际第三任董事长江上舟去世以后,尤为明显。

林本坚也同时站在了技术人员的角度来分析问题,不能闭门造车,要去跟别人交流,去学习别人的长处。对比别人的长处,来弥补自身的短处。说的很简单,句句在理。

强于欧美国家,也都是站在巨人肩膀上发展的。对产业和技术人员的尊重,人员才能在技术层面给国家的发展卖命。

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