众所周知，近几年来美国针对中国半导体展开了一系列的制裁和打压手段，可以用无所不用其极来形容，甚至还唆使其盟友，一同对中国半导体展开围追堵截。目前，日本、荷兰已经表明态度，将会限制对华出口半导体设备。

既然中美在半导体领域展开了激烈的竞争，光刻机就成为了绕不开的设备，因为想要生产制造芯片，就离不开光刻机的支持。很显然，美国也深知只要限制了光刻机的出口，就能最大限度打压中国半导体的崛起。

在光刻机领域，日本的尼康、佳能，荷兰的ASML几乎垄断了整个光刻机市场，于是美国便联合日、荷签订了所谓的“三方协议”，目的就是进一步限制先进半导体设备的出口。

而面对美国的不断施压，以及“三方协议”的束缚，日本和荷兰已经先后表态，日本表示会把包括曝光工艺、掩膜版等在内的23种半导体设备加入限制清单，并于7月23日起正式实施。

不过对于中企来说，日本的表态和荷兰的态度相比就有些微不足道了，原因就是虽然佳能和尼康都有在光刻机市场占有一定的份额，但是和荷兰的ASML相比，还是不够看。所以当荷兰表明了包括DUV光刻机在内的半导体设备进行限制出货的时候，有外媒表示：中国芯或将倒退10年！

荷兰ASML的光刻机在全球半导体产业中都扮演着极其重要的角色，作为芯片制造环节中的核心设备，很多半导体企业都离不开ASML的光刻机。而中国半导体产业近些年的发展势头迅猛，再加上中国也是全球最大的芯片消费市场，所以对于光刻机的需求也在不断增长，能否获得荷兰ASML的光刻机对于中国半导体来说就显得尤为重要了。

ASML在整个半导体领域的地位是毋庸置疑的，毕竟其是全球最大的光刻机制造商，同时也是唯一一个能够生产EUV光刻机的企业。不过因为美国的芯片禁令，导致中企并不能从ASML直接购入EUV光刻机，交易对象主要还是DUV光刻机。

可即便如此，我们从ASML购入的DUV也可以满足中国芯片市场的大部分需求。但令人没想到的是，针对DUV光刻机，荷兰也已经表明了态度，将会限制1980Di以上型号DUV光刻机的出货，还限制措施将于9月1日开始正式实施。

而1980Di型号光刻机主要用于中低端芯片的制造，和ASML目前最先进的EUV光刻机相比，有着巨大的差距，只能满足28nm、14nm等成熟工艺芯片的制造，想要突破7nm工艺及以下的高端芯片，难度还是很大的。

所以在外媒看来，这次荷兰的做法或许将会让中国芯回到10年前的水平。

可中国芯会就此认输吗？很显然，这不是我们的风格，因为国产光刻机的研发已经在路上了。

其实中国虽然是ASML的最大客户之一，但是ASML一直都有一个担忧，就是害怕美国针对中国半导体的限制措施，将会令中国加快国产光刻机的研发。简单来说，就是担心中国有朝一日解决了光刻机的制造难题，ASML会就此失去中国市场。

于是趁着禁令还未生效，ASML加快了对中国市场的出货力度，想要占据更多的中国芯产业链。

据数据统计，今年第二季度，ASML向中国大陆市场出货了27台光刻机，和第一季度的13台相比，出货量翻了一倍，中国大陆市场对ASML的营收贡献也从8%提升至24%，可见中国市场对ASML来说还是非常重要的。

而ASML担心失去中国市场，实际情况也正是如此，上海微电子在实现了90nm光刻机的量产之后，已经快马加鞭的进入更先进光刻机的研发和突破之中，彻底摆脱对国外光刻机的依赖也只是时间问题。

不过这并不仅仅是上海微电子的事情，还需要国内优秀半导体企业和科研机构的合作，通过大量资金和人才的注入，才能逐渐攻克光刻机难题，实现先进光刻机从0-1的突破。

一旦国产光刻机取得重大突破，到时候中国芯就不会再陷入“缺芯少魂”的局面了，届时，不是美芯卖不卖给我们，而是我们想不想买了。