根据最新的消息，除了华为被停止供货之外，国内的晶圆大厂的半导体进口也被停止。为改善这种情况，这次中国出钱，日本出力，或许在借力日本的“东风”下，非美国技术的光刻机将会突围。

光刻机的复杂程度

作为制造芯片的重要一环，光刻机的重要性不言而喻，而这也正是我国企业一直以来的薄弱地方。一台最先进的光刻机，由超过十万个零件构成，并且所需材料也是由多国进口，所以现在对我们来说，想要实现自主研发的光刻机，所要攻克的难关，不仅仅是要掌握技术，还要考虑各种零部件的购买。除了荷兰的ASML之外，光刻机领域还有很多巨头，只不过他们一直相对低调而已。

借力日本“东风”

日本在上个世纪七八十年代的时候，半导体行业发展迅速，很多美国的技术都被日本带到了其国内。如果在这个基础上，日本想要通过模仿，然后再超越，成功的几率还是很大的，如果能够加上我国助力，这个几率还会提高很多。这次由我国的企业出钱，日本的佳能、尼康一起参与研发，将会对除了EUV以外的光刻机进行攻克。

总结

此次我国企业的举动，无疑是非常正确的，虽然我们也只提倡自主研发，但目前来看，光刻机想要实现自主研发并不现实，所以一定要找到对的合作伙伴，只有这样才能对我们起到助力效果。而在中日企业合作下，造出非美国技术的光刻机，也不再是难事。