ASML的成立的本身，其实就充满了目的性，就是老美联合一众西方资本抢占日本尼康的光刻机市场，从而垄断全球高端芯片制造行业。而凭借着多方的技术加持，ASML成为光刻机金字塔最顶尖的企业。数据显示，ASML占据了全球光刻机市场80%的份额，而在EUV市场更是占到了字面上的100%。

不过，随着全球数字化的不断加速，物联网、智能汽车等领域对芯片需求大幅提升，ASML虽然光刻机产能也在提升，但依然无法满足用户的需求，外加上《瓦尔森协议》，最先进的EUV光刻机不能自由出货，这给各国竞逐半导体制造产业链带来了许多变数，许多国家纷纷展开了对光刻机的研发。

从目前的情况来看，对EUV光刻机展开深度研究的主要包括中国、俄罗斯还有日本，都制定了相关计划。值得注意的是，我国对光刻机的布局，除了许多中企之外，还有我国最高学术机构中科院的身影。

在华为遭遇“断粮”后的第一时间，中科院就公开宣布，将会集全院力量攻克光刻机难题。我们要知道，在过去数十年的时间里，每当我们被“断粮”、遭遇技术封锁，国内科研团队总能给我们带来惊喜，比如高铁、量子通讯、无人机、特高压输电技术、航空航天等。

而在光刻机领域，中科院也展开了紧锣密鼓的布局！根据中科院上海光机所公布的2022博士后招聘公告信息，从其中所招聘的多个岗位中我们可以发现，上海光机所招聘的人才主要涉及光刻机EUV光源的产生理论、技术研究，也就是说主要与EUV光源有关。上海光机所此举，其实具有非常明确的指向性，而且释放出了一种信号：中企正在关闭ASML的大门！为什么会这样说呢？

众所周知，光源、工件台、投影物镜三大件是光刻机的三个核心子系统，上海光机所并没有招聘工作台、投影物镜方面的工作人员，其实经常关注光刻机新闻的网友已经心知肚明。

工件台方面，我国已经取得了重大突破，去年北京的华卓精科与清华团队推出的双工件台，不管是在生产还是技术方面，都完全实现了“国产化”，而且该双工件台的精度为1.8nm，高速运行状态下精度能达到2nm，完全达到了ASML EUV光刻机对双工件台的要求，更是国产EUV光刻机的一块重要拼图。

镜头方面，中科院的光学镀膜水平同样达到了世界领先水平，并且可以将光学镀膜的厚度降低到0.1nm以内，这对EUV光刻机镜头的制备起到了至关重要的作用。

而如今中科院上海光交所将精力放在EUV光源方面，不难看出，这基本上已经是中国EUV光刻机最后的一张拼图了。

光刻机被公认为是世界上最难制造的设备之一，一台设备重达十几吨，零部件10多万个，制造难度非常高。早期我国半导体企业相关团队到海外拜访时，海外专家听到我们的想法之后曾一度发出“嘲讽”的声音，表示“把全套图纸给中国都没办法造出来”。这句话真正伤到了我国科研人员的自尊心，但这或许并不是一件坏事，反而激发出了国内科研人员的斗志。

如今，高端芯片制造产业链的核心环节正在一步步被中企攻克，近期，在上海积塔半导体采购的多台设备中，包括蚀刻机、i-line光刻机、KrF光刻机在内的许多设备，大部分采用的是国产设备，也就是说中企正在寻找ASML的替代品，如果EUV光源被彻底突破，国产EUV也将成功破冰，这也意味着ASML的大门必然被中企关闭。

而对于AMSL而言，想要长期留在国内市场，寻求自由出货，或许是当务之急的工作！但或许身不由己，毕竟ASML并不能独自研发EUV光刻机，许多技术依赖于老美、德国等，所以客户也都明白这一点，求菩萨不如求自己！