自从“芯战”拉开帷幕后，大陆半导体在核心设备材料方面的短板就被无限放大，尤其是光刻机，堪称我们实现芯片国产化道路上最大的藩篱。

事实上，早在2018年，国内就曾派出技术团队赴荷兰ASML总部“取经”，可不曾想，这反而成了刺痛中国芯片界的“奇耻大辱”。当我们的工程师提出参观EUV组装车间的时候，得到的回应却是：即便把图纸给你们，中国也造不出来。

在这“冷嘲热讽”的背后，是美西方精心编织的“光刻机铁幕”，他们通过《瓦森纳协定》严密封锁核心技术和零部件的出口，例如美国的光源，日本的光刻机，德国的蔡司镜头，还有ASML超过10万项的“专利壁垒”！

只不过，美西方似乎忽略了一个“铁律”，中国从来不惧封锁，外界封锁越严，突破就会越狠”。

就在3月25日，国内传出了一则重磅消息，中科院光机所成功研发出了全固态DUV光源。要知道，这项被ASML等西方精英们认为“不可能实现”的创新技术，不仅能使用国产晶体生成纯净的193nm的相干光，而且还可一举把半导体工艺推进至3nm的先进水准！

目前全球DUV光刻机设备普遍采用都是ArF准分子激光方案，它是通过电离氩氟混合气体产生的193nm激光。但这套DUV光源系统却存在着三大顽疾，对氩、氟等战略资源消耗过甚、工艺止步7nm，且技术专利遭到ASML垄断。

而全固态DUV光源技术的诞生，则从根本上打破了这三项壁垒，最关键的是，它还大幅降低了生产成本，拥有显著的性价比优势。可以说，中科院这次立了大功，这意味着，在全球光刻机市场，中国已初步具备改写游戏规则的实力。

在光刻机“赛道”，业界有这样的共识，那就是“得光源者得天下”。ASML作为行业翘楚，其DUV光刻机设备的售价普遍在1.2亿美元以上，仅仅是光源系统，就占到了总成本的约35%！由此足以看出全固态DUV光源横空出世的重大意义。

据悉，上海微电子已经启动该光源系统的适配测试，预计今年就会有结果。另外，该技术还可无缝衔接我们正在攻关的13.5nm EUV光源，也就是说，有该技术打底，大陆半导体完全有机会绕开ASML的EUV技术路线，直接进入到下一代的Hybrid光刻时代。

很显然，ASML最怕的情况来了。近些年，美西方持续对大陆半导体升级制裁，这导致ASML能够对中企客户出货的范围越来越小，而中国又是其最大的市场，营收占比一度高达36.1%，可现在几乎腰斩，这已经让ASML损失惨重、深刻感受到了“切肤之痛”。

为此，ASML前段时间宣布不再公布对大陆市场出货光刻机的数量和型号，同时还升级了维修中心，并整合备件仓储、组建技术团队。业界猜测，ASML这一系列举动既是为了规避限制、也是为了保留其在大陆市场的“火种”。

但伴随着国产光刻机技术的突破，ASML的不可替代属性会进一步被削弱，它接下来所面临的，将不只是在大陆市场份额的再度萎缩，它在全球光刻机市场的行业地位，恐怕也会被物美价廉的中国制造给冲击的体无完肤，盾构机就是前车之鉴，但凡被中国突破的设备或技术，都会被打成“白菜价”。

事实证明，ASML前CEO彼得·温宁克的预测是对的，早在美国实施芯片禁令之初，他就曾发出警告，称这么做将适得其反，在其看来，没有谁能阻止中国研发光刻机技术，而一旦中国搭建出完善的半导体产业体系，那么西方引以为傲的高端价值链将就此坍塌！

当然，我们从不提倡盲目的吹捧或者唱衰，虽然国产芯片近些年在产能、良率等各方面都发展惊人，但由于起步较晚，整体相比西方其实还有一定的差距，接下来仍需脚踏实地。更何况，美帝主义亡我之心始终未死，近期就又有50多家中企被列入了“实体清单”。

因此，我们必须放弃幻想，过去早已多次证明，核心技术是买不来的、换不来的、求不来的。纵然欧盟抛出了加大合作的橄榄枝，我们也绝不能放松警惕，中国芯的崛起之路没有捷径，只有不断加大研发投入与创新，站在技术制高点，方能彻底洗刷被“卡脖子”的屈辱！