近年来，随着中国科技的崛起，国内厂商加速自研自产芯片、增强芯片制造能力的步伐逐渐加快。而最近传来的消息，即今年前5个月国内芯片进口总量下滑283亿片，同比下滑10.9%；同时ASML向国内出货23台光刻机，也表明国内芯片和光刻机技术在快速发展，这一点已经开始变得明显。

首先，国内厂商开始加紧自研芯片，除了华为之外，小米、OV等厂商也开始从小芯片做起，并将推出自主研发的处理器，其他巨头也纷纷推出了自研的AI、服务等芯片。此外，国内芯片制造企业还不断扩大芯片产能，中芯国际投资1000亿元进行扩大，同时，国内又新增加一家掌握了14nm工艺的芯片企业。更多的厂商开始采用国产芯片，联发科超越高通成为手机芯片销量的第一名，小米、魅族等厂商纷纷在自家手机上用国产芯片等。

其次，国内厂商在光刻机技术方面也取得了多项突破。国产光源曝光技术已经到达DUV光刻机的水准，浸润系统已经发展到了第八代等。据消息称，国内厂商已经开始进行先进的光刻机的原型机打造工作。华为方面表示不出三五年，就会有美技术的芯片生产线出现，届时，华为芯片问题也将随之得到解决。

最后，不仅是国内厂商加速自研自产芯片，欧盟等国家和地区的厂商也开始加速自研自产芯片。铠侠等厂商联合推出了NIL工艺，将对EUV光刻机的依赖；欧盟投资430亿欧元到芯片领域内，计划2030年实现全球20%的芯片在欧生产制造。荷兰也已经计划投资11亿欧元到光电芯片领域内，目的也是降低对美芯技术的依赖。还有就是德国，也展开了相关光电芯片技术的课题研究。

国内厂商加速自研自产芯片，海外地区也有类似这样趋势，283亿片芯片和23台光刻机的消息传来后，外媒才说结果开始明显了。这表明国内科技企业在芯片制造领域已经取得了重大进展，并且在国际上也越来越受到关注。

中国政府已经提出“自力更生、自主创新”的口号，鼓励国内厂商加快芯片自研速度。同时，在国际压力下，国内厂商也迫切需要减少对进口芯片的依赖，实现芯片产业的自主可控。可以预见，在未来的几年里，国内芯片和光刻机技术将会继续迎来长足发展的机遇。