一项新的EUV专利暗示,尽管美国受到限制,但华为和中国芯片制造商可能很快就会看到芯片行业的进展。国内企业并没有远离制造先进的处理器,这可能会促进其经济和数字增长。

SMEE(上海微电子设备)提出了一项新的EUV专利。它被称为“极端紫外线[EUV]辐射发生器和光刻设备”。该专利于2023年3月颁发，目前正在接受中国知识产权局的审查，将很快就会获得批准。

EUV或极紫外光刻机有助于利用光制造高端处理器。这种射线的波长为13.5nm，比DUV (193nm)少14倍。这也意味采用EUV光刻机能够实现更小的芯片制造，制造小于7纳米的芯片需要EUV。

不同于EUV相对落后的DUV设备的使用给国内芯片厂商带来了一些障碍。例如，它需要更多的时间和金钱在晶圆制造，同样的5nm工艺的成本可能比台积电高出50%。但“有总比没有好”。随着时间的推移，芯片制造商可能会解决这些问题，并找到一个提高效能和产能的解决方案。

在几家被美国列入黑名单的中国公司中，也有中小企业。制裁后，SMEE(上海微电子设备)无法使用外国商品或芯片制造工具。然而，在芯片大战中，新专利似乎成为了希望之光。

该专利的细节目前尚不清楚。但这表明，中小企业正在积极地朝着新的芯片制造工具迈进。中国依靠深紫外光刻机（DUV）来制造设备和智能产品处理器。然而，经过多年努力和奉献，SMEE(上海微电子设备)在EUV光刻方面取得了进展，并将能够生产28nm或以下级别的处理器。

在美国已经限制许多外国供应商将先进的芯片组制造工具运往中国，新专利的揭露这是个好消息。我们知道被限制中其中之一是在中国光刻机市场占据很大份额的ASML。但现在荷兰正计划阻止阿斯麦ASML向中国供应其芯片制造工具。在这样一个阶段，新的EUV专利消息出现，对于中国芯片制造进展正在寻求突破中。

这将如何影响华为?

这项新专利将有助于华为在芯片制造过程中取得进展。目前，华为在中芯国际代工厂使用库存的DUV设备生产麒麟芯片。在采用新技术之前，该公司还在寻求改进其7nm芯片的方法。凭借先进的芯片制造设备，华为设备可能获得高端芯片和人工智能处理器。

无论如何，我们必须等待这件事的更多细节，以便有一个明确的看法。但我们一直期待国内芯片制造商取得新的进步。

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